[发明专利]检查设备

权利要求书

1.一种用于检查用于EUV光刻设备中的诸如表膜之类的物体的检查设备，所述检查设备包括：

-真空腔室；

-装载锁，所述装载锁形成介于所述真空腔室与周围环境之间的接口；

-平台设备，所述平台设备被配置成从所述装载锁接收所述物体且使所述物体在所述真空腔室内移位；

其中所述真空腔室包括用于临时储存所述物体的第一停放位置和第二停放位置。

2.根据权利要求1所述的检查设备，还包括转移机构，所述转移机构被配置成将所述物体从所述装载锁转移至所述平台设备以及将将所述物体从所述平台设备转移至所述装载锁。

3.根据权利要求2所述的检查设备，其中所述转移机构至少部分地被布置于所述装载锁内。

4.根据权利要求2所述的检查设备，其中所述转移机构被安装至所述平台设备。

5.根据前述权利要求中任一项所述的检查设备，其中所述装载锁包括第一门、第二门和装载锁定腔室，所述第一门被配置成将所述周围环境与所述装载锁定腔室分隔开，所述第二门被配置成将所述真空腔室与所述装载锁定腔室分隔开。

6.根据权利要求1所述的检查设备，其中所述平台设备被配置成将物体从所述平台设备转移至所述第一停放位置以及将物体从所述第一停放位置转移至所述平台设备，并且其中所述平台设备被配置成将物体从所述平台设备转移至所述第二停放位置以及将物体从所述第二停放位置转移至所述平台设备。

7.根据前述权利要求中任一项所述的检查设备，其中所述平台设备包括用于保持所述物体的保持器。

8.一种用于检查用于EUV光刻设备中的诸如表膜之类的物体的检查设备，所述检查设备包括：

-真空腔室；

-第一装载锁，所述第一装载锁形成介于所述真空腔室与周围环境之间的接口；

-第二装载锁，所述第二装载锁形成介于所述真空腔室与周围环境之间的接口；

-平台设备，所述平台设备被配置成从所述第一装载锁接收所述物体且使所述物体在所述真空腔室内移位，并且被配置成将所述物体提供至所述第二装载锁。

9.一种用于检查用于EUV光刻设备中的诸如表膜之类的物体的检查设备，所述检查设备包括：

-腔室，所示腔室被配置成在经调节的气氛中进行配置以用于检查所述物体；

-装载锁，所述装载锁形成介于所述腔室与周围环境之间的接口；

-辐射束源，所述辐射束源被配置成产生用于检查所述物体的辐射束；

-辐射束测量系统，所述辐射束测量系统被配置成测量所述辐射束的特性，其中所述辐射束测量系统包括：

о被布置于所述辐射束的介于所述辐射束源与所述物体之间的光学路径中的构件，所述构件包括孔，所述孔允许所述辐射束的一部分传播至所述物体，和

о至少一个辐射传感器，所述至少一个辐射传感器被布置于所述构件上且被配置成测量所述辐射束的特性。

10.根据权利要求9所述的检查设备，其中所述至少一个辐射传感器沿所述孔的圆周布置。

11.根据权利要求9或10所述的检查设备，其中所述孔具有实质上矩形形状。

12.根据权利要求11所述的检查设备，其中所述辐射束测量系统包括沿所述孔的至少两侧的辐射传感器。

13.根据权利要求11或12所述的检查设备，其中所述辐射束测量系统包括沿所述孔的每个侧的至少一个辐射传感器。

14.根据权利要求9至13中任一项所述的检查设备，其中所述辐射束测量系统还包括在所述光学路径中被布置于所述构件的上游的光谱纯度滤光器。