[发明专利]目标材料供应设备和方法

权利要求书

1.一种用于供应目标材料的设备，所述设备包括：

储蓄器系统，包括与喷嘴供应系统流体连通的储蓄器；

注入系统，包括：

注入室，限定了初级腔；以及

可移除载体，被配置为被容纳在所述初级腔中，所述可移除载体限定了次级腔，所述次级腔被配置为容纳包括所述目标材料的固体物质；以及

输送系统，从所述注入系统延伸到所述储蓄器系统，所述输送系统被配置为提供在所述注入系统和所述储蓄器系统之间的流体流动路径。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述可移除载体包括下壁，所述下壁被配置为容纳所述固体物质，所述下壁限定了输送开口，当所述可移除载体被容纳在所述初级腔中时，所述输送开口与所述输送系统流体连通。

3.根据权利要求2所述的设备，其中所述下壁包括在所述下壁之上延伸到所述次级腔中的凸缘，所述凸缘限定了所述输送开口的周界，其中所述下壁的平面低于所述凸缘的平面。

4.根据权利要求3所述的设备，其中在使用时，处于所述流体状态的目标材料由于所述输送系统而从所述次级腔至少部分地排放，并且在处于所述流体状态的所述目标材料被排放之后，处于所述流体状态的非目标材料被捕获在由所述凸缘和所述下壁限定的阱中，并且被防止从所述次级腔排放。

5.根据权利要求1所述的设备，其中：

所述输送系统包括调节设备，所述调节设备被配置为控制来自所述注入系统的流体的流动；并且

所述注入系统包括从所述注入室延伸的管壁，所述管壁的内部与以下项流体连通：由所述可移除载体的下壁限定的所述输送开口，以及所述输送系统的所述流体流动路径。

6.根据权利要求5所述的设备，其中所述调节设备包括双阀组件，所述双阀组件包括：

冷冻阀；以及

闸门阀。

7.根据权利要求6所述的设备，其中：

所述闸门阀在所述冷冻阀与所述储蓄器系统之间，使得所述目标材料避免与所述闸门阀的闸门接触，并且

所述冷冻阀包括与所述管壁热连通的调节温度调整装置。

8.根据权利要求1所述的设备，其中所述输送系统包括：

回填池，在所述注入系统和所述储蓄器系统之间的所述流体流动路径中；以及

调节设备，用于控制在所述注入系统和所述回填池之间的流体的流动；

其中所述回填池限定了回填腔，所述回填腔被配置为通过所述调节设备，从所述注入系统接纳呈流体物质形式的所述目标材料。

9.根据权利要求8所述的设备，其中：

所述注入室被配置为利用所述初级腔中容纳的所述可移除载体而被气密密封，并且所述初级腔被配置为在使用时被抽空降压至低于大气压力的初级压力；

所述回填池被配置为被气密密封，并且所述回填腔被配置为在使用时被抽空降压至低于大气压力的回填压力，并且

在使用时，当所述调节设备处于打开状态时，所述初级腔与所述回填腔流体连通。

10.根据权利要求9所述的设备，其中所述初级压力小于或等于约10^-6托，并且所述回填压力小于或等于10^-6托。

11.根据权利要求8所述的设备，进一步包括回填真空泵，所述回填真空泵被流体连接到所述回填腔，并且被配置为调整所述回填腔内的回填压力。

12.根据权利要求1所述的设备，其中所述注入室被配置为利用所述初级腔中容纳的所述可移除载体而被气密密封，所述设备还包括注入真空泵，所述注入真空泵通过阀系统而被流体连接到所述初级腔，并且被配置为调整所述初级腔内的初级压力。