[发明专利]圆筒型溅射靶的制造方法在审

专利信息
申请号: 201980071856.9 申请日: 2019-10-21
公开(公告)号: CN112969811A 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 冈野晋;大友健志 申请(专利权)人: 三菱综合材料株式会社
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 辛雪花;周艳玲
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 圆筒 溅射 制造 方法
【说明书】:

本发明的圆筒型溅射靶的制造方法具有:基底处理工序,将基底处理接合材料涂布于靶材的内周面和衬管的外周面中的至少任一个上来形成基底处理层;及接合工序,在基底处理工序之后,将衬管插入到靶材内,并且将填充用接合材料填充于所述靶材与衬管之间的间隙,在所述接合工序中,在靶材或衬管中的任一个或两个上沿着圆周方向设置能够配置成在间隙内沿径向突出的刮板,并且对基底处理层进行加热而使其表面成为至少半熔融状态,并利用刮板刮去形成于基底处理层的表面上的氧化膜,同时将衬管插入到靶材内。

技术领域

本发明涉及一种用于溅射装置的圆筒型溅射靶的制造方法。

本申请主张基于2018年12月26日于日本申请的特愿2018-242356号的优先权,并将其内容援用于此。

背景技术

已知一种在旋转圆筒型溅射靶的同时进行溅射的溅射装置。如专利文献1所示,用于这种溅射装置的圆筒型溅射靶中,圆筒型的靶材的内周面与圆筒型衬管的外周面接合。

在该接合中,已知如下接合方法:将与接合材料相同或相似的基底处理接合材料涂布于成为接合面的圆筒型衬管的外周面及圆筒型靶材的内周面上来形成基底处理覆膜,然后,将圆筒型衬管插入到靶材内,在两者之间设置用于接合部的间隙,并且使靶材和圆筒型衬管成为被加热的状态,向该间隙供给熔融状态的接合材料来填充间隙。多会将铟(In)用作接合材料。

此时,靶材及圆筒型衬管的基底处理接合材料的表面会经过基底处理后的冷却及用于将接合材料填充到两者的间隙内的接合前的再加热等,从而表面被氧化,形成氧化膜。

所填充的接合材料与基底处理接合材料之间的接触受形成于该基底处理接合材料的表面上的氧化膜的阻碍,容易发生接合不良。发生接合不良的圆筒型溅射靶需要进行如下作业:对该圆筒型溅射靶整体进行加热以使接合材料熔融之后,从衬管卸下靶材,重新进行接合。另一方面,靶材随着要溅射的基板的大型化而长条化,从提高生产效率的观点出发,具有增加溅射成膜时的功率密度的倾向,还可期待接合强度的提高。

作为其对策,例如在专利文献2中公开了如下技术:在将熔融状态的接合材料填充于圆筒型靶材与圆筒型衬管之间的间隙之后,插入钢线或钢板来搅拌填充于它们之间的接合材料,将所填充的接合材料和基底处理接合材料一体化。

在专利文献3中,在圆筒型靶材与圆筒型衬管之间的空间放入接合材料即比重轻于焊料的粉体物质,接着,在将熔融焊料注入到空间内以使粉体物质浮在焊料的液面上的状态下,使粉体物质振动的同时进行注入,由此物理地搅拌了焊料。

在专利文献4中,将固体的接合材料填充于圆筒型靶材与圆筒型衬管之间的间隙,对该接合材料进行加热而使其熔融,由此减少基底处理面与大气的接触面积,抑制了靶材和圆筒型衬管的基底处理面上的氧化膜的产生。

专利文献1:日本特开2014-37619号公报

专利文献2:日本专利第6341146号公报

专利文献3:日本特开2012-177156号公报

专利文献4:日本特开2018-111868号公报

然而,在专利文献2的情况下,用于搅拌接合材料的作业花费时间。而且,为了在整个面上去除所涂布的接合材料的氧化膜,需要搅拌靶材与衬管之间的整个间隙,在搅拌不充分的部分发生接合不良的可能性较高。

对于专利文献3也同样,需要作为其他装置而另行设置用于使粉体物质振动的振动源,且若通过粉体物质的振动进行的焊料的搅拌不充分,则有时会导致接合不良。

在专利文献4的制造方法中,若在接合之前,在固体的接合材料的外周面或靶材及衬管的内外周面上附着有氧化膜,则难以避免接合不良。因此,需要在将靶材配置于衬管内之前去除形成于接合材料的表面或靶材、衬管的内外周面上的氧化膜。

发明内容

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