[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和计算机可读存储介质

权利要求书

1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：

构成为能够供给臭氧气体的臭氧气体供给部；

构成为能够供给呈现出规定的氢离子浓度的调整液的调整液供给部；

构成为能够使所述臭氧气体溶解于所述调整液而生成臭氧水的溶解部；

构成为能够用所述臭氧水来对基片进行清洗处理的至少一个处理腔室；和

构成为能够通过送液线路将所述臭氧水从所述溶解部输送到所述至少一个处理腔室的送液部。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于：

还包括排液部，其与所述送液线路连接，构成为能够将所述臭氧水排出到系统外部。

3.如权利要求1所述的装置，其特征在于：

还包括臭氧浓度监视器，其设置在所述送液线路上，构成为能够获取所述溶解部的下游侧的所述臭氧水的臭氧浓度。

4.如权利要求3所述的装置，其特征在于：

还包括控制部，其执行控制所述调整液供给部的处理，使得根据所述臭氧浓度监视器所获取的臭氧浓度，来调节所述调整液供给部中生成的所述调整液的氢离子浓度。

5.如权利要求3所述的装置，其特征在于：

从所述溶解部到所述臭氧浓度监视器的所述送液线路的路径长度，大致等于从所述溶解部到所述至少一个处理腔室的所述送液线路的路径长度。

6.如权利要求1所述的装置，其特征在于：

所述至少一个处理腔室包括构成为能够用所述臭氧水来对基片进行清洗处理的第一处理腔室和第二处理腔室，

所述送液线路以从所述溶解部分别向所述第一处理腔室和所述第二处理腔室分支的方式延伸，

所述送液线路中从所述溶解部到所述第一处理腔室的路径长度，大致等于所述送液线路中从所述溶解部到所述第二处理腔室的路径长度。

7.如权利要求1所述的装置，其特征在于：

所述调整液供给部构成为能够将水与酸性溶液混合而生成所述调整液。

8.如权利要求7所述的装置，其特征在于：

所述调整液供给部构成为能够使所述调整液循环。

9.如权利要求1所述的装置，其特征在于：

还包括构成为能够对所述送液线路供给碱性溶液的碱性溶液供给部。

10.如权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：

构成为能够获取所述调整液或所述臭氧水的温度的温度监视器；

构成为能够获取所述调整液的氢离子浓度的氢离子浓度监视器；

构成为能够获取所述臭氧水的臭氧浓度的臭氧浓度监视器；和

控制部，其执行控制所述送液部的处理，使得在所述温度监视器所获取的温度为规定值以上，所述氢离子浓度监视器所获取的氢离子浓度为规定值以上，并且所述臭氧浓度监视器所获取的臭氧浓度为规定值以上时，将所述臭氧水从所述溶解部输送到所述至少一个处理腔室。

11.如权利要求1所述的装置，其特征在于：

还包括控制部，

所述至少一个处理腔室包括构成为能够用所述臭氧水来对基片进行清洗处理的多个处理腔室，

所述送液线路以从所述溶解部分别向所述多个处理腔室分支的方式延伸，

所述送液部构成为能够通过所述送液线路将所述臭氧水从所述溶解部分别输送到所述多个处理腔室，

所述控制部执行控制所述送液部的处理，使得在向所述多个处理腔室中的一个处理腔室输送所述臭氧水的情况下，不对所述多个处理腔室中的其余处理腔室输送所述臭氧水。

12.如权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：

排液部，其设置在所述送液线路上，构成为能够将所述臭氧水排出到系统外部；和

控制部，其执行控制所述排液部的处理，使得在没有向所述至少一个处理腔室输送所述臭氧水的情况下，将所述臭氧水排出到系统外部。