[发明专利]用于运行家用烹饪器具的方法和家用烹饪器具

说明书

本发明涉及一种方法（S1‑S11），在该方法中在持续时间（Δt）里用参数配置（Sq）来运行烹饪物处理装置（6），以便处理烹饪物（G）。紧接在所述持续时间（Δt）结束之后借助于传感器（9）来确定所述烹饪物（G）的表面特性的测量值分布Vp，从第p个测量值分布Vp与测量值分布Vp‑1的比较中计算变化模式E(Sq)，并且为所有至此在这种方法的过程中所存储的变化模式｛E(Sq)｝计算相应的估计值Bq，所述估计值表示目标分布Z相对于测量值分布Vp的偏差与目标分布Z相对于预测模式V’p的偏差之间的差别，其中所述预测模式V’p表示测量值分布Vp与所属的变化模式E(Sq)的叠加，并且调节以下参数配置（Sq），所述参数配置的估计值Bq满足至少一个预先给定的标准。

技术领域

本发明涉及一种用于运行家用烹饪器具的方法，所述家用烹饪器具具有烹饪室、至少一个用于用多种参数配置对处于烹饪室中的烹饪物进行处理的烹饪物处理装置以及至少一个对准烹饪室里面的用于确定烹饪物的表面特性的分布的传感器，其中通过所述至少两种参数配置能够对所述烹饪物进行局部不同的处理，其中在所述方法中在第p个迭代步骤中（其中p≥1）在预先给定的持续时间（Δt）里用第q个参数配置S_q（其中q≤p）来运行烹饪物处理装置，以用于处理处于烹饪室中的烹饪物并且紧接在所述持续时间Δt结束之后借助于所述至少一个传感器来确定所述烹饪物的表面特性的第p个分布V_p。本发明也涉及一种用于执行所述方法的家用烹饪器具。本发明尤其能够有利地运用到微波器具上。

背景技术

US 2018/0098381 A1和US 2017/0290095 A1公开了一种用计算机实现的方法，该方法用于将电子炉的烹饪室中的物品朝目标状态进行加热。所述方法包括在所述炉处于特定的配置中时用一组相对于烹饪室的能量应用方案对物品进行加热这个步骤。所述组的能量应用方案以及所述配置定义所述室中的相应组的可变的能量分布。所述方法也包括对传感器数据进行采集的步骤，所述传感器数据定义所述烹饪物的、对所述组的能量应用方案所作出的、相应组的应答。所述方法也包括生成用于对所述室中的物品进行加热的计划的步骤。所述计划由炉的控制系统来产生并且使用所述传感器数据。

WO 2012/109634 A1公开了一种用于用HF能量对物体进行处理的装置。所述装置能够包括显示器，以用于向使用者显示有待加工的物体的图像，其中所述图像包括所述物品的至少一个第一部分和第二部分。所述装置也能够包括输入单元和至少一个处理器，所述处理器被配置用于：接收基于在所述输入单元上所提供的输入的信息并且用于产生处理信息，所述处理信息用于基于所接收的信息在对物体进行加工时使用，以用于在所述物体的第一区段中获得第一处理结果并且在所述物体的第二区段中获得第二处理结果。

发明内容

本发明的任务是，至少部分地克服现有技术的缺点并且尤其提供一种能够特别容易地实现的和有效的可行方案，以用于将烹饪物自动地处理到所期望的表面特性。

该任务按照独立权利要求的特征来解决。有利的实施方式是从属权利要求、说明书和附图的主题。

该任务通过一种用于运行家用烹饪器具的方法来解决，所述家用烹饪器具具有：

-烹饪室；

-至少一个用于用多种参数配置对处于烹饪室中的烹饪物进行处理的烹饪物处理装置，其中通过至少两种参数配置能够对所述烹饪物进行局部不同的处理；以及

-至少一个对准烹饪室里面的用于确定烹饪物的表面特性的分布V的传感器；

其中在所述方法中

a）在第p个迭代步骤中（其中p≥1）在预先给定的持续时间Δt里用第q个参数配置S_q（其中q≤p）来运行至少一个烹饪物处理装置，以用于处理处于烹饪室中的烹饪物；

b）紧接在所述持续时间Δt结束之后借助于所述至少一个传感器来确定或者测量所述烹饪物的表面特性的第p个分布V_p；