[发明专利]形成光学格栅组件的方法与测量光学格栅的性质的系统

权利要求书

1.一种形成光学格栅组件的方法，包括：

提供光学格栅层；

在所述光学格栅层中形成光学格栅，其中所述光学格栅包括多个斜角沟槽；

将来自光源的光传送至所述光学格栅层中；

在蚀刻所述光学格栅的同时测量所述光的离开所述光学格栅层的非绕射部分及所述光的离开所述光学格栅层的绕射部分；

将预定光值与所述光的所述非绕射部分及所述光的所述绕射部分的所检测光值进行比较，其中所述预定光值对应于已知的斜角沟槽深度；以及

基于将所述所检测光值与所述预定光值进行比较来确定所述多个斜角沟槽的深度，其中所述所检测光值是光强度。

2.根据权利要求1所述的形成光学格栅组件的方法，还包括：

在所述光学格栅层中形成测试光学格栅，其中所述测试光学格栅包括第二多个斜角沟槽；以及

测量以下中的至少一者：所述光的通过所述测试光学格栅的非绕射部分及所述光的在与所述测试光学格栅作用后离开所述光学格栅层的绕射部分。

3.根据权利要求1所述的形成光学格栅组件的方法，还包括在一时间周期内测量所述光的所述非绕射部分的所述光强度与所述光的所述绕射部分的所述光强度之间的差。

4.根据权利要求1所述的形成光学格栅组件的方法，其中形成所述光学格栅包括蚀刻所述光学格栅层以形成所述多个斜角沟槽，且其中所述蚀刻包括斜角反应离子蚀刻。

5.根据权利要求1所述的形成光学格栅组件的方法，其中所述多个斜角沟槽相对于所述光学格栅层的平面的垂直线以非零倾斜角设置。

6.根据权利要求1所述的形成光学格栅组件的方法，还包括当达成所述多个斜角沟槽的预定深度时，终止蚀刻所述光学格栅层。

7.一种形成光学格栅组件的方法，包括：

提供光学格栅层；

将光传送至所述光学格栅层中；

在所述光穿过所述光学格栅层行进的同时蚀刻所述光学格栅层，以形成光学格栅，所述光学格栅具有相对于所述光学格栅层的平面的垂直线以非零倾斜角设置的多个斜角组件；

在形成所述光学格栅期间，检测所述光的离开所述光学格栅层的非绕射部分及所述光的离开所述光学格栅层的绕射部分；

将预定光强度与所述光的所述非绕射部分及所述光的所述绕射部分进行比较，其中所述预定光强度对应于已知的斜角组件高度；以及

基于所述预定光强度与所检测光强度的比较来确定所述多个斜角组件的高度。

8.根据权利要求7所述的形成光学格栅组件的方法，还包括：

当所述多个斜角组件的高度等于所述已知的斜角组件高度时，终止蚀刻所述光学格栅层。

9.根据权利要求8所述的形成光学格栅组件的方法，还包括在一时间周期内测量所述光的所述非绕射部分的光强度与所述光的所述绕射部分的光强度之间的差。

10.根据权利要求7所述的形成光学格栅组件的方法，其中所述光相对于所述光学格栅层的平面的垂直线以非零倾斜角直接传送至所述光学格栅层中。

11.根据权利要求10所述的形成光学格栅组件的方法，其中测量所述光的所述非绕射部分，以确定所述光的由于所述光学格栅而损失的量。

12.根据权利要求7所述的形成光学格栅组件的方法，其中所述光的所述非绕射部分继续通过所述光学格栅并在第一离开点处离开所述光学格栅层，且其中所述光的所述绕射部分在所述光学格栅处改变方向并在第二离开点处离开所述光学格栅层。

13.一种用于测量光学格栅的性质的系统，包括：

光源，将光传送至光学格栅层中，其中所述光的非绕射部分继续通过形成于所述光学格栅层中的光学格栅并在第一离开点处离开所述光学格栅层，且其中所述光的绕射部分在所述光学格栅处改变方向并在第二离开点处离开所述光学格栅层；

两个检测器，分别检测所述光的所述非绕射部分及所述光的所述绕射部分；以及

一种处理装置，经操作用以：

接收所述光的所述非绕射部分的第一光强度及所述光的所述绕射部分的第二光强度；

将所述第一光强度及所述第二光强度与预定光强度进行比较，其中所述预定光强度与已知的光学格栅沟槽深度相关；以及

基于所述第一光强度及所述第二光强度与所述预定光强度的比较来确定所述光学格栅的多个斜角沟槽的深度。