[发明专利]空间调制装置

权利要求书

1.一种用于在空间上调制电磁辐射的方法，包括以下步骤：

收集要在空间上调制的电磁辐射；

将所述辐射引导到衬底上的光学元件的有序阵列上；

平移所述衬底，以使至少两个不同的光学元件在两个不同的时间接合入射辐射；

在所述两个不同时间测量衬底位置；以及

将所述位置发送给用户；

其中所述光学元件阵列具有至少三个光学元件和至少两个光学元件，所述至少三个光学元件和至少两个光学元件对入射在其上的所述辐射进行不同地调制。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述空间调制器的光学元件引导电磁辐射被调制成至少两个不同的方向。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述空间调制器的光学元件引导电磁辐射被调制成至少三个不同方向。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述空间调制器的光学元件在待调制的电磁辐射中产生至少两个不同的相位变化。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述空间调制器的光学元件在待调制的电磁辐射中产生至少三个不同的相位变化。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述空间调制器的光学元件以至少两种不同的方式改变待调制的入射辐射的偏振。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述空间调制器的光学元件以至少三种不同的方式改变待调制的入射辐射的偏振。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述空间调制器的光学元件与所述衬底材料是一体的。

9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述光学元件选自光阑、反射镜、衍射光栅、相位板、折射楔、折射棱镜和偏振器的集合。

10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述光学元件包括可呈至少两种不同配置的反射镜。

11.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，至少一个反射镜至少改变一次配置，并且当所述反射镜未暴露在待调制的电磁辐射下时发生所述配置变化。

12.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述位置测量使用与所述衬底成一体的组件，并且该组件靠近所述光学元件。

13.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述衬底是形成闭环的柔性带，其中所述带绕所述环平移，并且所述光学元件沿着平移方向布置。

14.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述衬底是旋转盘，并且所述光学元件布置成距旋转轴线共同的径向距离。

15.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述衬底是一弧，其中围绕所述弧的轴线经历周期性的和/或往复的旋转运动，并且所述光学元件沿所述弧布置成距所述旋转轴线共同的径向距离。

16.一种用于测量衬底的位移的方法，包括以下步骤：

用反射或透射的位置指示器阵列将光束引导到所述衬底上；

使衬底相对于所述光束移动，以在不同的时间透射或反射来自至少两个不同的位置标记的光束的一部分；

每隔一段时间测量透射或反射光的强度；以及

多次分析所述测得的光强度，以提供有关衬底位置的信息。

17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述光束在任何时间瞬间与零个或一个位置标记相交，并且所述光束在不同时间瞬间与至少两个不同的位置标记相交。