[发明专利]防眩性薄膜、防眩性薄膜的制造方法、光学构件和图像显示装置在审

专利信息
申请号: 201980075233.9 申请日: 2019-11-13
公开(公告)号: CN113039463A 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 茂手木佑辅;桥本尚树;济木雄二 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02;B32B7/023;G02B1/111;G02B5/30;G02F1/1335;G09F9/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 防眩性 薄膜 制造 方法 光学 构件 图像 显示装置
【权利要求书】:

1.一种防眩性薄膜,其特征在于,其在透光性基材(A)上层叠有防眩层(B),

在所述防眩性薄膜的所述防眩层(B)侧的最表面形成有凹凸,

所述凹凸满足下述数学式(1)和(2),

θa≤0.24 (1)

Rz≤0.20 (2)

所述数学式(1)中,θa为所述凹凸的平均倾斜角[°],

所述数学式(2)中,Rz为所述凹凸的十点平均高度[μm]。

2.根据权利要求1所述的防眩性薄膜,其还满足下述数学式(3),

Ra≤0.050 (3)

所述数学式(3)中,Ra为所述凹凸的算术平均表面粗糙度[μm]。

3.根据权利要求1或2所述的防眩性薄膜,其中,在所述防眩层(B)的与所述透光性基材(A)处于相反侧的面上还层叠有其它层。

4.一种防眩性薄膜,其特征在于,其在透光性基材(A)上依次层叠有防眩层(B)和其它层,

在所述其它层的最表面形成有凹凸,

所述凹凸满足下述数学式(1)和(2),

θa≤0.24 (1)

Rz≤0.20 (2)

所述数学式(1)中,θa为所述凹凸的平均倾斜角[°],

所述数学式(2)中,Rz为所述凹凸的十点平均高度[μm]。

5.根据权利要求3或4所述的防眩性薄膜,其中,所述其它层为低反射层(C)。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的防眩性薄膜,其中,所述防眩层(B)包含粘结剂树脂和聚集性填料。

7.根据权利要求6所述的防眩性薄膜,其中,所述聚集性填料为有机粘土。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的防眩性薄膜,其中,所述防眩层(B)不含颗粒。

9.一种权利要求1至8中任一项所述的防眩性薄膜的制造方法,其特征在于,其包括下述工序:

在所述透光性基材(A)上形成所述防眩层(B)的防眩层(B)形成工序;和

在所述防眩性薄膜的所述防眩层(B)侧的最表面上以满足所述数学式(1)和(2)的方式形成所述凹凸的凹凸形成工序,

所述防眩层(B)形成工序包括:将涂覆液涂覆在所述透光性基材(A)上的涂覆工序;和使所涂覆的所述涂覆液干燥而形成涂膜的涂膜形成工序,

所述涂覆液包含树脂和溶剂。

10.根据权利要求9所述的制造方法,其中,所述防眩层(B)形成工序还包括使所述涂膜固化的固化工序。

11.根据权利要求9或10所述的制造方法,其中,所述溶剂包含甲苯和甲乙酮。

12.根据权利要求9至11中任一项所述的制造方法,其中,所述防眩性薄膜为权利要求3至5中任一项所述的防眩性薄膜,

所述凹凸形成工序包括在所述防眩层(B)上形成所述其它层的其它层形成工序。

13.一种光学构件,其包含权利要求1至8中任一项所述的防眩性薄膜。

14.根据权利要求13所述的光学构件,其为偏光板。

15.一种图像显示装置,其包含权利要求1至8中任一项所述的防眩性薄膜或者权利要求13或14所述的光学构件。

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