[发明专利]具有干涉涂层和用于改善耐磨性的多层系统的光学镜片

说明书

本发明涉及一种光学镜片，所述光学镜片包括具有前主面和后主面的基材，所述基材的至少一个主面依次涂覆有：不包括任何Ta₂O₅层的第一高折射率片材；第二低折射率片材；第三高折射率片材；具有大于或等于100nm的厚度的单层子层；以及包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层的堆叠体的多层干涉涂层。所述后主面上的在280nm与380nm之间、由在ISO 13666:1998标准中定义的函数W(λ)加权的平均反射因数R_UV针对35°的入射角小于10％。

本发明涉及一种光学制品，该光学制品包括涂覆有多层透明干涉涂层(典型地减反射涂层)的基材，具有改进的耐磨性和良好的耐热性，特别是涉及一种眼科镜片以及一种制造这种光学制品的方法。

对光学基材的至少一个主表面涂覆若干涂层以便为成品制品赋予附加的或改进的光学特性或机械特性是本领域的惯常做法。这些涂层通常指定为功能涂层。

可以用于赋予多种机械特性和/或光学特性的各种涂层可以是耐冲击涂层、耐磨涂层和/或耐划伤涂层、减反射涂层和/或反射涂层、和/或防污层和/或防雾层。

在文献中可以找到改进对环境引起的划伤敏感的光学制品的耐磨性的不同方法。例如，比如在JP 2003-195003和JP 2003-294906中，已经提出了在减反射涂层的下方使用相对较厚的子层、或者增加减反射涂层的总厚度，其中描述了一种镜片，该镜片涂覆有底漆涂层、硬涂层以及7层减反射涂层，该减反射涂层包括交替的SiO₂层和TiO₂层，后者在离子辅助下沉积并且已知对于光降解作用是敏感的。在JP 2003-294906中，建议控制减反射涂层的前三层的膜厚度(从基材侧算起)，并且使用针对前三层计算的较高的(SiO₂层的物理厚度之和)/(TiO₂层的物理厚度之和)之比。

US 8982466涉及一种光学镜片，该光学镜片具有硬涂层和多层减反射涂层，其中，由TiO₂制成的高折射率层总共具有小于40nm的厚度。

EP 2775341披露了一种眼镜镜片，该眼镜镜片具有硬涂层、360-390nm厚的SiO₂子层以及由SiO₂、ZrO₂和/或Ta₂O₅制成的4层干涉涂层，其中，这些层具有特定的纳米压痕硬度和压应力，并且通常通过离子辅助气相沉积来沉积。这种沉积技术增加了压应力，并且因此可能导致分层。

JP 2002-122820描述了一种涂覆有SiO₂子层的硬涂层基材，该子层的物理厚度为89-178nm(光学厚度：在520nm处为0.25-0.5λ)和4层减反射涂层(ZrO₂/SiO₂/ZrO₂/SiO₂)。根据本文件，通过能够使涂层厚度和各种材料层之间的应力平衡，可以达到高临界温度。然而，研究的唯一参数是子层的厚度。其厚度应使得比(SiO₂层(包括子层)的物理厚度之和)/(ZrO₂层的物理厚度之和)的范围是2到3。认为较高的比是不期望的，因为减反射涂层的耐久性会降低。

US 7692855披露了一种具有减反射特性和高耐热性的光学制品，该光学制品包括具有至少一个主面的基材，该至少一个主面涂覆有多层减反射涂层，其中，低折射率层的物理厚度/高折射率层的物理厚度之比一般大于2.1。

US 2008/206470涉及一种用于制造具有减反射特性或反射特性的光学制品的方法，该光学制品包括子层、子层和多层堆叠体。为了增加光学制品的耐磨性，必须在沉积步骤期间在真空室中在供应附加气体的情况下沉积子层，并且必须使子层的外露表面经受离子轰击处理，然后沉积多层堆叠体。