[发明专利]能量产生在审

专利信息
申请号: 201980076177.0 申请日: 2019-09-20
公开(公告)号: CN113056863A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: D·欧文斯 申请(专利权)人: 凡尼克斯私人有限公司
主分类号: H02K53/00 分类号: H02K53/00;H02K7/18;H02K35/00;H02K1/34;H02K35/02
代理公司: 北京世峰知识产权代理有限公司 11713 代理人: 卓霖;张春媛
地址: 澳大利亚*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 能量 产生
【权利要求书】:

1.一种能量产生设备,包括:

第一元件,包括至少一个第一磁体;

第二元件,包括至少一个第二磁体,所述第二元件能够相对于所述第一元件移动;和

至少一个定位元件或凸轮,包括起伏或波状表面,以控制所述至少一个第一磁体和/或所述至少一个第二磁体的位置和/或取向;

其中,所述至少一个第一磁体和所述至少一个第二磁体取向为使得第一磁体和第二磁体的共同磁极暂时彼此靠近,使得所述至少一个第一磁体和所述至少一个第二磁体之间的排斥磁力引起所述第一元件和所述第二元件之间的相对运动。

2.根据权利要求1所述的设备,其中,所述第二元件能够相对于所述第一元件旋转,使得当所述至少一个第一磁体和所述至少一个第二磁体的共同磁极暂时彼此靠近时,所述排斥磁力使所述第二元件相对于所述第一元件旋转。

3.根据权利要求1所述的设备,其中,所述第二元件相对于所述第一元件表现出往复直线运动,使得当所述至少一个第一磁体和所述至少一个第二磁体的共同磁极暂时彼此靠近时,所述排斥磁力使所述第二元件相对于所述第一元件直线地移动。

4.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中,所述第一元件包括多个第一磁体和/或所述第二元件包括多个第二磁体。

5.根据权利要求4所述的设备,其中,所述多个第一磁体中的磁体在所述第一元件上间隔开,例如,等距间隔开或基本上等距间隔开,且可选地围绕所述第一元件上的圆形路径的周围或所述第二元件的周边间隔开。

6.根据权利要求4所述的设备,其中,所述多个第二磁体中的磁体在所述第二元件上间隔开,例如,等距间隔开或基本上等距间隔开,且可选地围绕所述第二元件上的圆形路径的周围或所述第二元件的周边间隔开。

7.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中,所述至少一个第一磁体和所述至少一个第二磁体的北极暂时彼此靠近,或者所述至少一个第一磁体和所述至少一个第二磁体的南极暂时彼此靠近。

8.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中,所述至少一个第一磁体被安装到所述第一元件,并且所述至少一个第二磁体被安装在所述第二元件,取向为使得在所述第二元件的运动方向上的磁排斥力最大,特别是使所述第二元件的旋转速度最大。

9.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中:所述第一元件是固定的;和/或所述第二元件安装在至少一个无摩擦轴承上。

10.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中,所述第二元件与所述第一元件间隔开,特别是利用所述第一元件与所述第二元件之间的气隙间隔开。

11.根据权利要求1至9中任一项所述的设备,其中,所述设备包括在所述第一元件与所述第二元件之间的真空。

12.根据前述权利要求中任一项所述的设备,还包括在安装到所述第一元件的所述至少一个第一磁体和安装到所述第二元件的所述至少一个第二磁体之间的磁屏蔽元件,所述磁屏蔽元件包括在所述至少一个第一磁体和所述至少一个第二磁体对准的位置处或者该位置周围的、所述磁屏蔽元件中的至少一个孔或开口。

13.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中,所述定位元件或凸轮的表面包括正弦表面变化,所述正弦表面变化包括多个交替定位的凸角和沟槽,以在磁体暂时彼此靠近时将所述第二磁体移动至更靠近所述第一磁体,并且在其它时间移动至彼此更加远离。

14.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中,所述定位元件或凸轮包括中心孔,以将所述第二元件容纳在其中。

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