[发明专利]金属膜、以及溅射靶在审
| 申请号： | 201980077161.1 | 申请日： | 2019-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN113166922A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 岁森悠人;野中庄平;小见山昌三;林雄二郎 | 申请（专利权）人： | 三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C22C5/06;C23C14/34;G02F1/1335;G02F1/1343;C22F1/00;C22F1/14 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 刁兴利;康泉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属膜 以及 溅射 | ||
1.一种金属膜，其特征在于，
以0.10原子％以上且5.00原子％以下的范围含有Cu，并且Pd的含量为40质量ppm以下、Pt的含量为20质量ppm以下、Au的含量为20质量ppm以下、Rh的含量为10质量ppm以下、且Pd、Pt、Au及Rh的总含量为50质量ppm以下，剩余部分由Ag与不可避免杂质构成。
2.根据权利要求1所述的金属膜，其特征在于，
进一步以总计0.05原子％以上含有Sb、Zn、Sn、Pb、Ti中的至少一种或两种以上作为添加元素，并且Cu及Sb、Zn、Sn、Pb、Ti的总含量为5.00原子％以下。
3.一种溅射靶，其特征在于，
以0.10原子％以上且5.00原子％以下的范围含有Cu，并且Pd的含量为40质量ppm以下、Pt的含量为20质量ppm以下、Au的含量为20质量ppm以下、Rh的含量为10质量ppm以下、且Pd、Pt及Rh的总含量为50质量ppm以下，剩余部分由Ag与不可避免杂质构成。
4.根据权利要求3所述的溅射靶，其特征在于，
进一步以总计0.05原子％以上含有Sb、Zn、Sn、Pb、Ti中的至少一种或两种以上作为添加元素，并且Cu及Sb、Zn、Sn、Pb、Ti的总含量为5.00原子％以下。
5.根据权利要求4所述的溅射靶，其特征在于，
根据溅射面的多个测定点中的Sb、Zn、Sn、Pb、Ti的总含量值的平均值μT与标准差σT且由下式所算出的分布DT为20％以下，
DT＝(σT/μT)×100(％)。
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