[发明专利]用于高炉中的回旋区深度控制的方法和系统

权利要求书

1.一种用于高炉(1)中的回旋区深度(R)控制的方法，所述方法包括借助控制系统(16)控制通过风口(9)的热风流(8)，所述控制系统(16)借助雷达传感器(15)通过所述风口(9)执行回旋区深度测量(RM)，所述雷达传感器(15)将所述回旋区深度测量(RM)发送给所述控制系统(16)，所述控制系统(16)将所述回旋区深度测量(RM)与预定的回旋区深度(RP)进行比较，其特征在于，所述控制系统(16)借助分布在所述高炉(1)的周边上的多个雷达传感器(15)通过多个风口(9)执行所述回旋区深度测量(RM)。

2.根据权利要求1所述的用于回旋区深度(R)控制的方法，其特征在于，所述控制系统(16)通过对所述多个风口(9)将所述回旋区深度测量(RM)与所述预定的回旋区深度(RP)进行比较来控制通过所述多个风口(9)的热风流(8)，以便实现在所述高炉(1)的周边上的一致的回旋区深度(R)。

3.根据权利要求1或2所述的用于回旋区深度(R)控制的方法，其特征在于，在所述回旋区深度测量(RM)具有比所述预定的回旋区深度(RP)高的值时，所述控制系统(16)减少通过一个或多个风口(9)的热风流(8)，而在所述回旋区深度测量(RM)具有比所述预定的回旋区深度(RP)低的值时，所述控制系统增加通过所述一个或多个风口(9)的热风流(8)。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的用于回旋区深度(R)控制的方法，其特征在于，所述控制系统(16)以将所述回旋区深度测量(RM)与发送给所述控制系统(16)的至少一个其它的高炉控制测量(M)相结合的方式控制通过所述一个或多个风口(9)的热风流(8)，所述至少一个其它的高炉控制测量选自由顶部气体温度、顶部气体成分、红外和/或可见光图像、光谱测量、一氧化碳和/或二氧化碳量、炉壁温度和压力测量组成的组合。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的用于回旋区深度(R)控制的方法，其特征在于，所述控制系统(16)经由一个或多个由两个或更多个风口(9)组成的组合来控制热风流(8)。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的用于回旋区深度(R)控制的方法，其特征在于，所述控制系统(16)提供在所述高炉(1)的周边上的回旋区深度(R)的可视化显示(17)。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的用于回旋区深度(R)控制的方法，其特征在于，所述多个雷达传感器(15)以连续的方式向所述控制系统(16)发送所述回旋区深度测量(RM)。

8.一种用于高炉(1)中的回旋区深度(R)控制的系统，所述系统包括用于控制通过风口(9)的热风流(8)的控制系统(16)，所述控制系统(16)具有用于通过所述风口(9)执行回旋区深度测量(RM)的雷达传感器(15)，所述雷达传感器(15)布置成将所述回旋区深度测量(RM)发送给所述控制系统(16)，所述控制系统(16)布置成将所述回旋区深度测量(RM)与预定的回旋区深度(RP)进行比较，其特征在于，所述控制系统(16)布置成借助分布在所述高炉(1)的周边上的多个雷达传感器(15)通过多个风口(9)执行所述回旋区深度测量(RM)。

9.根据权利要求8所述的用于回旋区深度(R)控制的系统，其特征在于，所述控制系统(16)布置成通过对所述多个风口(9)将所述回旋区深度测量(RM)与所述预定的回旋区深度(RP)进行比较来控制通过所述多个风口(9)的热风流(8)，以便实现在所述高炉(1)的周边上的一致的回旋区深度(R)。

10.根据权利要求8或9所述的用于回旋区深度(R)控制的系统，其特征在于，所述控制系统(16)布置成在所述回旋区深度测量(RM)具有比所述预定的回旋区深度(RP)高的值时减少通过一个或多个风口(9)的热风流(8)，而在所述回旋区深度测量(RM)具有比所述预定的回旋区深度(RP)低的值时所述控制系统增加通过所述一个或多个风口(9)的热风流(8)。