[发明专利]低压下产生等离子体反应器闭合回路的方法和系统

权利要求书

1.低压下产生等离子体反应器闭合回路的方法，其包含：

-将新鲜进料气流和新鲜进料吸收液流进料到包含冷凝器、液体回路、再循环气体回路和等离子体发生器的等离子体反应器闭合回路中；

-在等离子体发生器中将进料气体转化为反应性等离子体产物；

-将反应性等离子体产物骤冷并吸收到在液体回路中循环的吸收液中，在所述液体回路中，反应性等离子体产物反应以形成液体反应产物，从而在闭合回路中产生低压；

-监测再循环气体回路的组成和低压，如果压力增加，则调节新鲜进料气流和/或新鲜进料吸收液流的组成，以使进料气体的组成接近与所吸收的反应性等离子体产物的化学计量比；

-从所述等离子体反应器闭合回路中提取含有液体反应产物的循环吸收液作为产物流。

2.根据权利要求1所述的方法，其中通过控制器来监测所述组成和低压。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述控制器是包含反馈控制的可编程逻辑控制器(PLC)。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，如果压力增加，则调节新鲜进料气体的流量和/或新鲜进料吸收液的流量。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中产生的低压小于1.2巴。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其中产生的低压小于1.0巴。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其中产生的低压小于0.8巴。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其中产生的低压小于0.6巴。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其中产生的低压小于0.4巴。

10.根据权利要求1或2所述的方法，其中产生的低压小于0.2巴。

11.根据权利要求1或2所述的方法，其中产生的低压小于0.1巴。

12.根据权利要求1或2所述的方法，其中降低所述再循环气体回路中的压力以接近所述吸收液的蒸汽压力。

13.根据权利要求1或2所述的方法，其中通过泵使所述吸收液在所述液体回路中循环。

14.根据权利要求1或2所述的方法，其中再循环气体流从所述冷凝器再循环至所述等离子体反应器闭合回路的等离子体发生器、喷射器或其他部分中的一个或多个。

15.根据权利要求14所述的方法，其中通过所述喷射器进一步降低等离子体发生器和含等离子体的气体中的压力，其中所述循环吸收液用作所述喷射器中的动力流体。

16.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述等离子体反应器闭合回路中的质量平衡由新鲜吸收液的进料控制。

17.根据权利要求1或2所述的方法，其中平衡所述进料气体的组成与所吸收的反应性等离子体产物的化学计量比，以避免未反应气体的积聚，未反应气体的积聚会导致压力增大。

18.根据权利要求17所述的方法，其中通过调节温度和/或压力来平衡所述进料气体的组成与所吸收的反应性等离子体产物的化学计量比。

19.根据权利要求1或2所述的方法，其中来自所述冷凝器的吸收液的至少一部分在氧化塔中被氧化。

20.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述等离子体是含NO的等离子体。