[发明专利]层叠体有效
申请号: | 201980077804.2 | 申请日: | 2019-12-24 |
公开(公告)号: | CN113165326B | 公开(公告)日: | 2023-03-24 |
发明(设计)人: | 佐佐田泰行;久永和也;胁阪大树 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B32B7/06 | 分类号: | B32B7/06;G02B5/30 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 周欣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 层叠 | ||
根据本发明,提供一种层叠体,其特征在于,依次包括基材、转印层及粘接层,转印层和粘接层相邻,转印层的面积比粘接层的面积大,并且在转印层的膜厚上有面内分布,在粘接层的端部与转印层接触的位置(P1)上的转印层的膜厚(t1)比其内侧位置(P2)上的转印层的膜厚(t2)薄。
技术领域
本发明涉及一种包括转印层和粘接层的层叠体。更详细而言,本发明涉及一种例如作为能够适用于液晶显示装置等的光学膜而有用的包括转印层和粘接层的层叠体。
背景技术
近年来,液晶显示装置等显示装置正在快速推进薄型化或大型化,以确保设计性、抑制伴随环境变化的显示装置的光斑故障为目的,正在推进以光学膜为首的部件的薄型化。
例如,在作为液晶显示装置的必要部件的偏振片中,在偏振片因环境湿度的变化而伸缩的情况下,贴合有偏振片的液晶面板翘曲,认为通过面板与背光部件接触而产生光斑。
为了解决该问题,提出有使用低透湿性光学膜的方式(专利文献1)、抑制因光学膜的尺寸变化而产生的力的方式(专利文献2或专利文献3)等。
并且,提出有使用转印性光学膜进行薄膜化并抑制面板翘曲的方式(专利文献4)等。
另一方面,以提高转印层的品质为目的,提出有将非转印区域多层化的方法(专利文献5)、在使转印材料预先折弯之后剥离基材的转印方法(专利文献6)等。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2015-007768号公报
专利文献2:日本特开2014-095880号公报
专利文献3:国际公开第2017/138551号公报
专利文献4:日本特开2017-215562号公报
专利文献5:日本特开2003-103997号公报
专利文献6:日本特开平10-067199号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
专利文献4中所公开的转印性光学膜发挥优异的效果,但是近年来要求进一步提高性能,尤其,关于基材剥离性(能够从基材稳定地剥离转印层的性能)和减少缺陷有研究的余地。
并且,在专利文献5中所公开的方法中,当生产长条状层叠体时,产生搬运位置偏移或由宽幅层叠体中的各材料的尺寸变化引起的位置偏移,可知基材剥离性未得到改善。此外,可知专利文献6中所公开的方法因生产装置的结构上的限制而无法适用。
本发明要解决的课题是提供一种基材剥离性良好且缺陷少的包括转印层和粘接层的层叠体。
用于解决技术课题的手段
为了改善基材剥离性,发现了通过在转印层的膜厚上设置面内分布并使与粘接层的端部接触的位置(P1)上的转印层的膜厚比其内侧位置(P2)上的转印层的膜厚薄,能够解决上述课题并完成了本发明。
从而,作为用于解决上述课题的具体方式的本发明如下。
<1>一种层叠体,其特征在于,
依次包括基材、转印层及粘接层,转印层与粘接层相邻,转印层的面积比粘接层的面积大,并且在转印层的膜厚上存在面内分布,粘接层的端部与转印层接触的位置(P1)处的转印层的膜厚(t1)比该位置(P1)内侧的位置(P2)处的转印层的膜厚(t2)薄。
<2>根据<1>所述的层叠体,其中,
上述P1处的转印层和基材的粘接力(fa1)与上述P2处的转印层和基材的粘接力(fa2)之差小于3N/25mm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980077804.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:稳定性优异的还原型辅酶Q10结晶的制造方法
- 下一篇:切削工具用硬质涂层