[发明专利]发光元件及其制造方法以及具有发光元件的显示设备在审

专利信息
申请号: 201980079397.9 申请日: 2019-06-20
公开(公告)号: CN113169254A 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 文秀美;金恩珠;赵显敏 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L33/24 分类号: H01L33/24;H01L33/54;H01L33/00;H01L27/15
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;刘铮
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 元件 及其 制造 方法 以及 具有 显示 设备
【权利要求书】:

1.发光元件,包括:

杆状的发射堆叠图案,包括第一导电半导体层、设置在所述第一导电半导体层上的有源层、以及设置在所述有源层上的第二导电半导体层;以及

绝缘膜,围绕所述发射堆叠图案的外表面,并且具有不均匀的厚度。

2.根据权利要求1所述的发光元件,其中,所述发射堆叠图案的所述外表面在形状上不同于所述绝缘膜的外表面。

3.根据权利要求2所述的发光元件,其中,所述发射堆叠图案具有通过在第一方向上依次堆叠所述第一导电半导体层、所述有源层和所述第二导电半导体层而形成的圆柱体的形状,以及

其中,所述绝缘膜的所述外表面具有椭圆形形状、多边形形状、以及其中所述椭圆形形状和所述多边形形状混合的形状。

4.根据权利要求3所述的发光元件,其中,所述绝缘膜的所述外表面包括至少一个突起。

5.根据权利要求1所述的发光元件,其中,所述发射堆叠图案的所述外表面在形状上与所述绝缘膜的外表面相同。

6.根据权利要求5所述的发光元件,其中,所述发射堆叠图案的所述外表面和所述绝缘膜的所述外表面各自具有多边形形状。

7.制造发光元件的方法,包括:

提供衬底;

在所述衬底上形成杆状的发射堆叠图案;

形成围绕所述发射堆叠图案的外表面并且具有不均匀的厚度的绝缘膜;以及

将被所述绝缘膜围绕的所述发射堆叠图案从所述衬底分离以形成发光元件。

8.根据权利要求7所述的方法,其中,形成所述绝缘膜包括:

形成具有与所述发射堆叠图案的所述外表面具有相同形状的外表面的绝缘膜图案;以及

通过去除所述绝缘膜图案的至少一部分,形成具有在形状上与所述发射堆叠图案的所述外表面不同的外表面的绝缘膜。

9.根据权利要求7所述的方法,其中,在形成所述绝缘膜时,所述绝缘膜形成为具有外表面以围绕所述发射堆叠图案的圆柱形外表面,所述绝缘膜的所述外表面具有椭圆形形状、多边形形状或其中所述椭圆形形状和所述多边形形状混合的形状。

10.根据权利要求9所述的方法,其中,在形成所述绝缘膜时,所述绝缘膜的所述外表面包括至少一个突起。

11.根据权利要求7所述的方法,其中,形成所述发射堆叠图案包括:

在所述衬底上形成发射堆叠部,所述发射堆叠部通过依次形成第一导电半导体层、有源层和第二导电半导体层而形成;

在所述发射堆叠部上形成多个第一微图案;以及

通过沿着所述多个第一微图案刻蚀所述发射堆叠部并去除所述多个第一微图案来形成多个发射堆叠图案。

12.根据权利要求11所述的方法,其中,形成所述多个第一微图案包括:

在所述发射堆叠部上形成多个第一树脂部;

将所述第一树脂部设置成填充第一模具的多个第一凹槽;以及

通过去除所述第一模具,在所述发射堆叠部上形成所述多个第一微图案。

13.根据权利要求12所述的方法,其中,形成所述绝缘膜包括:

在所述发射堆叠图案和所述绝缘膜图案上形成多个第二微图案;以及

通过沿着所述多个第二微图案刻蚀所述绝缘膜图案来形成所述绝缘膜。

14.根据权利要求13所述的方法,其中,形成所述多个第二微图案包括:

在所述发射堆叠图案和围绕所述发射堆叠图案的所述外表面的所述绝缘膜图案上形成多个第二树脂部;

使所述第二树脂部填充第二模具的多个第二凹槽;以及

通过去除所述第二模具,在所述发射堆叠图案和围绕所述发射堆叠图案的所述外表面的所述绝缘膜图案上形成多个第二微图案。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980079397.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top