[发明专利]具有定制提取孔的离子源在审
申请号: | 201980079403.0 | 申请日: | 2019-11-06 |
公开(公告)号: | CN113169006A | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 帕特里克·赫雷斯;丹尼斯·罗比塔尔 | 申请(专利权)人: | 艾克塞利斯科技公司 |
主分类号: | H01J37/08 | 分类号: | H01J37/08;H01J27/02 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 刘芳;寿宁 |
地址: | 美国马萨诸塞州*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 定制 提取 离子源 | ||
1.一种离子源,其包括:
离子源壳体,其限定离子产生腔室,所述离子产生腔室用于限制其中的离子的高密度浓度;以及
提取构件,其与所述离子源壳体相关联,其限定用于允许离子离开所述离子产生腔室的提取孔,其中所述提取孔具有定制形状,所述定制形状包括:
中心部分,其具有第一宽度尺寸;以及
第一远端部分和第二远端部分,其从所述中心部分的相对侧延伸,所述相对的远端部分具有第二宽度尺寸,所述第二宽度尺寸大于所述中心部分的所述第一宽度尺寸。
2.根据权利要求1所述的离子源,其中所述提取构件具有凸起的侧面特征,使得所述提取构件的深度尺寸在所述定制形状的提取孔的所述中心部分相邻处最大,并且在所述远端部分附近具有减小的深度尺寸。
3.根据权利要求1所述的离子源,其中所述提取孔包括多个相对的曲线侧壁部分,使得所述提取孔在平面图中是曲线的。
4.根据权利要求3所述的离子源,其中所述多个相对的曲线侧壁部分包括:
与所述中心部分相关联的侧壁,其在形状上是相对凸起的;以及
与所述第一远端和所述第二远端中的每一个相关联的侧壁,其在形状上是相对凹入的。
5.根据权利要求3所述的离子源,其中与所述第一远端和所述第二远端相关联的所述侧壁在平面图中形成圆形形状。
6.根据权利要求3所述的离子源,其中与所述第一远端和所述第二远端相关联的所述侧壁在平面图中形成椭圆形形状。
7.根据权利要求1所述的离子源,其中所述定制形状沿着延伸穿过所述中心部分以及所述第一远端部分和所述第二远端部分的中心轴线对称。
8.根据权利要求1所述的离子源,其中所述定制形状沿着延伸穿过所述中心部分以及所述第一远端部分和所述第二远端部分的中心轴线是不对称的。
9.根据权利要求1所述的离子源,其中所述第一远端部分和所述第二远端部分相对于所述中心部分对称。
10.根据权利要求1所述的离子源,其中所述第一远端部分和所述第二远端部分相对于所述中心部分不对称。
11.根据权利要求1所述的离子源,其中所述提取孔包括多个相对的线性侧壁部分,使得所述提取孔在平面图中是线性的。
12.根据权利要求11所述的离子源,其中,与所述第一远端和所述第二远端相关联的所述相对的线性侧壁部分在其间沿着从所述中心部分延伸到所述第一远端和所述第二远端的路径具有逐渐增加的宽度尺寸。
13.根据权利要求11所述的离子源,其中,与所述第一远端和所述第二远端相关联的所述相对的线性侧壁部分包括由其间变化的宽度尺寸而分开的多个相对的横向片段。
14.一种离子注入机,其包含:
离子源,其包括:
壳体,其限定弧形腔室,所述弧形腔室用于限制其中的离子的高密度浓度;以及
提取构件,其与所述离子源壳体相关联,所述提取构件限定用于允许离子离开所述弧形腔室的提取孔,其中所述提取孔具有定制形状,所述定制形状包括:
中心部分,其具有第一宽度尺寸;以及
第一远端部分和第二远端部分,其从所述中心部分的相对侧延伸,所述相对的远端部分具有第二宽度尺寸,所述第二宽度尺寸大于所述中心部分的所述第一宽度尺寸。
15.根据权利要求14所述的离子注入机,其中所述提取孔的所述定制形状具有大致为狗骨形状的平面特征。
16.根据权利要求14所述的离子注入机,其中所述提取孔的所述定制形状具有大致为领结形状的平面特征。
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