[发明专利]带粘合剂层的偏振膜

权利要求书

1.一种带粘合剂层的偏振膜，其具备：

偏振膜，该偏振膜具有起偏镜、和设置于所述起偏镜的可视侧的保护膜；以及

设置于所述起偏镜的与可视侧相反侧的粘合剂层，

其中，所述粘合剂层包含基础聚合物和有机硅低聚物Ps，

所述基础聚合物含有含氮单体(b2)作为单体单元，

相对于所述基础聚合物100重量份，以0.5～1重量份包含所述有机硅低聚物Ps，

所述有机硅低聚物Ps的Tg为47℃以上且73℃以下、侧链的有机硅官能团当量为1000～20000g/mol、重均分子量为10000以上且300000以下。

2.根据权利要求1所述的带粘合剂层的偏振膜，其中，

所述有机硅低聚物Ps包含具有聚有机硅氧烷骨架的单体S1、和均聚物的玻璃化转变温度为-70℃以上且180℃以下的单体作为单体单元。

3.根据权利要求1所述的带粘合剂层的偏振膜，其中，

所述基础聚合物以80重量％以上含有均聚物的玻璃化转变温度为-80℃以上且0℃以下的(甲基)丙烯酸烷基酯(A)作为单体单元。

4.根据权利要求2所述的带粘合剂层的偏振膜，其中，

所述基础聚合物以80重量％以上含有均聚物的玻璃化转变温度为-80℃以上且0℃以下的(甲基)丙烯酸烷基酯(A)作为单体单元。

5.根据权利要求3所述的带粘合剂层的偏振膜，其中，

所述基础聚合物进一步以5重量％以下含有选自含羧基单体(b1)及含氮单体(b2)中的至少一种极性单体(B)作为单体单元。

6.根据权利要求4所述的带粘合剂层的偏振膜，其中，

所述基础聚合物进一步以5重量％以下含有选自含羧基单体(b1)及含氮单体(b2)中的至少一种极性单体(B)作为单体单元。

7.根据权利要求5所述的带粘合剂层的偏振膜，其中，

所述基础聚合物进一步以0.1～18重量％含有均聚物的玻璃化转变温度为0℃以上且180℃以下的甲基丙烯酸烷基酯、以0～5重量％含有含羟基单体作为单体单元。

8.根据权利要求6所述的带粘合剂层的偏振膜，其中，

所述基础聚合物进一步以0.1～18重量％含有均聚物的玻璃化转变温度为0℃以上且180℃以下的甲基丙烯酸烷基酯、以0～5重量％含有含羟基单体作为单体单元。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的带粘合剂层的偏振膜，其中，

所述基础聚合物的重均分子量为50万～250万。

10.根据权利要求1～8中任一项所述的带粘合剂层的偏振膜，其中，

所述起偏镜的厚度超过0μm且为12μm以下。

11.根据权利要求9所述的带粘合剂层的偏振膜，其中，

所述起偏镜的厚度超过0μm且为12μm以下。

12.根据权利要求1～8中任一项所述的带粘合剂层的偏振膜，其中，

所述有机硅低聚物Ps的熔融温度为-20℃～120℃。

13.根据权利要求9所述的带粘合剂层的偏振膜，其中，

所述有机硅低聚物Ps的熔融温度为-20℃～120℃。

14.根据权利要求10所述的带粘合剂层的偏振膜，其中，

所述有机硅低聚物Ps的熔融温度为-20℃～120℃。

15.根据权利要求11所述的带粘合剂层的偏振膜，其中，

所述有机硅低聚物Ps的熔融温度为-20℃～120℃。