[发明专利]平版印刷版前体在审

专利信息
申请号: 201980081892.3 申请日: 2019-12-09
公开(公告)号: CN113168095A 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: P·亨德里克斯;T·比利埃;J·罗库费尔;K·希姆斯舒特 申请(专利权)人: 爱克发有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/016;G03F7/027;G03F7/029;G03F7/038;G03F7/105;G03F7/30
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李进;林毅斌
地址: 比利时*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 平版印刷 版前体
【说明书】:

公开了平版印刷版前体,其包括支撑体和涂层,所述涂层包含敏化剂和鎓盐,其中鎓盐和敏化剂能够在UV光暴露时诱导印出图像。

技术领域

发明涉及新型平版印刷版前体。

背景技术

平版印刷通常涉及使用所谓的印刷底版,如安装在轮转印刷机的滚筒上的印刷版。底版在其表面上带有平版图像,并且通过将油墨施加到所述图像上,并且然后将油墨从底版转移到接收材料上而获得印刷品,所述接收材料通常为纸。在常规的平版印刷中,将油墨以及水性润版液(也称为润版液)供应至平版图像,所述平版图像由亲油(或疏水,即接受油墨、排斥水)区域以及亲水(或疏油,即接受水、排斥油墨)区域组成。在所谓的无水胶印中,平版图像由接受油墨区域和防油墨粘黏(排斥油墨)区域组成,并且在无水胶印过程中,仅将油墨供应给底版。

平版印刷底版通常通过平版印刷支撑体上的辐射敏感层以图像方式(image-wise)暴露和加工来获得。成像和加工使所谓的平版印刷版前体成为印刷版或底版。通常通过数字调制的暴露装置(如激光器)将辐射敏感涂层以图像方式暴露于热或光,这触发物理化学过程,如烧蚀(ablation)、聚合、通过聚合物交联或通过热塑性聚合物胶乳的颗粒凝结而不溶、通过破坏分子间相互作用或通过增加显影阻挡层的渗透性而增溶。尽管一些印版前体能够在暴露后立即产生平版图像,但是最流行的平版印版前体需要湿加工,因为该暴露在涂层的暴露区域和未暴露区域之间产生溶解度的差异或在显影剂中溶解速率的差异。在阳图制版平版印版前体中,涂层的暴露区域溶解在显影剂中,而未暴露区域保持对显影剂的耐受性。在阴图制版平版印版前体中,涂层的未暴露区域溶解在显影剂中,而暴露区域保持对显影剂的耐受性。大多数平版印版前体包含在亲水支撑体上的疏水涂层,使得保持对显影剂的耐受性的区域定义印版的油墨接受,因此定义印版的印刷区域,而亲水支撑体通过非印刷区域处的涂层在显影剂中溶解而显露。

光聚合物印刷版依赖于一种工作机理,由此通常包括可自由基聚合的化合物的涂层在暴露时硬化。“硬化”是指涂层在显影溶液中变得不溶或不可分散,并且可以通过光敏涂层在暴露于光时的聚合和/或交联来实现。光聚合物印版前体可以对蓝光、绿光或红光(即波长范围在450 nm和750 nm之间)敏化,对紫光(即波长范围在350 nm和450 nm之间)敏化,或对红外光(即波长范围在750 nm和1500 nm之间)敏化。任选地,在暴露步骤之后进行加热步骤以增强或加速聚合和/或交联反应。

通常,要求可成像层上方的顶层或保护性外涂层充当氧阻挡以向印版提供所需的敏感度。顶层通常包括水溶性或水溶胀性聚合物,例如聚乙烯醇。除了充当氧阻挡之外,顶层应当最好在加工过程中可容易地去除,并且对光化辐射足够透明,光化辐射例如从300nm至450 nm或从450 nm至750 nm或从750 nm至1500 nm。

光聚合物印版的经典工作流程包括:首先在紫光或红外制版机中的光聚合物印刷版前体的暴露步骤,接着是任选的预热步骤、保护性外涂层的洗涤步骤、碱性显影步骤以及冲洗和上胶步骤。在过去几年里,在简化工作流程的方向上有明显的进展,其中消除了预热步骤和/或洗涤步骤,并且其中在一个单一步骤中进行加工和上胶步骤,或者其中用中性胶进行加工且然后在第二步骤中上胶。或者,印刷机上加工已经变得非常流行,其中印版安装在印刷机上,并且通过与在印刷机运行过程中供应到印版的润版液和油墨相互作用而将涂层显影。在印刷机的第一次运行过程中,非图像区域从支撑体去除,并且从而定义印版的非印刷区域。

除了允许评价图像质量之外,还需要图像和亲水支撑体之间的高对比度,以便在多色印刷中获得不同印刷版的良好图像套准(对准),从而确保图像的清晰度(分辨率)和所提供图像中颜色的正确呈现。为了能够在将平版印刷版安装在印刷机上之前评价平版印刷版的图像质量,例如图像分辨率和细节呈现(通常用光密度计测量),平版印刷版前体通常在涂层中含有着色剂,例如染料或颜料。在加工之后,这样的着色剂在含有着色剂的图像区域和涂层已被去除的亲水支撑体之间提供对比度,这使得最终用户能够评价图像质量和/或确定前体是否已暴露于光。

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