[发明专利]气溶胶生成设备及其操作方法

权利要求书

1.一种气溶胶生成设备，包括：

复合基座，用于在使用中加热气溶胶生成材料从而在使用中生成气溶胶，其中所述复合基座包括支撑部分和由所述支撑部分支撑的基座部分；

感应元件，被布置成用于在使用中将感应能量传送到所述基座部分；以及

驱动装置，被布置成在使用中用交流电驱动所述感应元件，从而在使用中使得所述感应能量传送到所述基座部分，从而在使用中使得所述复合基座加热所述气溶胶生成材料，从而在使用中生成所述气溶胶；

其中，所述交流电具有包括具有第一频率的基频分量和各自具有比所述第一频率高的频率的一个或多个其他频率分量的波形。

2.根据权利要求1所述的气溶胶生成设备，其中，所述基座部分形成为所述支撑部分上的涂层。

3.根据权利要求1所述的气溶胶生成设备，其中，所述基座部分包括第一片材料，并且所述支撑部分包括第二片材料，所述第二片材料被配置为邻接所述基座部分以支撑所述基座部分。

4.根据权利要求3所述的气溶胶生成设备，其中，所述支撑部分被配置为围绕所述基座部分。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的气溶胶生成设备，其中，所述基座部分的厚度基本上不超过50微米。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的气溶胶生成设备，其中，所述基座的厚度基本上不超过20微米。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的气溶胶生成设备，其中，所述基座部分包括铁磁材料。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的气溶胶生成设备，其中，所述基座部分包括镍和钴中的一者或多者。

9.根据权利要求1至6中任一项所述的气溶胶生成设备，其中，所述基座部分包括铝。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的气溶胶生成设备，其中，所述一个或多个其他分量是所述基频分量的谐波。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的气溶胶生成设备，其中，所述第一频率是在0.5MHz至2.5MHz范围内的频率F，并且所述一个或多个其他频率分量中的每个分量的频率是nF，其中n是大于1的正整数。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的气溶胶生成设备，其中，所述波形是基本上三角波、基本上锯齿波和基本上方波中的一个。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的气溶胶生成设备，其中，所述波形是双极性方波。

14.根据权利要求13所述的气溶胶生成设备，其中，所述驱动装置包括以H桥构造布置并且能够控制以提供所述双极性方波的晶体管。

15.根据权利要求1至14中任一项所述的气溶胶生成设备，其中，所述支撑部分包括金属、金属合金、陶瓷材料、塑料材料和纸中的一者或多者。

16.根据权利要求1至16中任一项所述的气溶胶生成设备，其中，所述复合基座包括耐热保护部分，其中，所述基座部分位于所述支撑部分和所述保护部分之间。

17.根据权利要求16所述的气溶胶生成设备，其中，所述耐热保护部分是所述基座部分上的涂层。

18.根据权利要求16或17所述的气溶胶生成设备，其中，所述耐热保护部分包括陶瓷材料、金属氮化物、氮化钛和金刚石中的一者或多者。

19.根据权利要求1至18中任一项所述的气溶胶生成设备，其中，所述复合基座基本上是平面的。