[发明专利]用于膜中自限性蛋白质孔插入的系统和方法

权利要求书

1.一种形成纳米孔传感器单元的阵列的方法，所述方法包括：

在单元附近引入纳米孔，所述单元具有工作电极和密封所述单元的膜，其中所述工作电极由电耦合的电源供电；

跨所述单元的所述膜施加电压波形，其中所述电压波形从第一电压开始并且历经一段时间在大小方面增大到第二电压；以及

在施加所述电压波形的步骤期间将所述纳米孔插入所述膜中；

其中所述电压波形包括AC调制分量，所述AC调制分量配置为允许在跨所述单元的所述膜施加所述电压波形时通过所述工作电极进行电测量。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一电压介于0mV和100mV之间并且所述第二电压介于100mV至2000mV之间。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述工作电极是电容式电极。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述电压波形包括所述第一电压和所述第二电压之间的多个递增步长。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述多个递增步长是以1mV至100mV递增。

6.根据权利要求4所述的方法，其中所述多个递增步长是以1mV至25mV递增。

7.根据权利要求4所述的方法，其中每个递增步长具有介于0.1秒至60秒之间的持续时间。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述递增步长的所述持续时间是可变的。

9.根据权利要求7所述的方法，其中更低电压下所述递增步长的所述持续时间大于更高电压下所述递增步长的所述持续时间。

10.根据权利要求7所述的方法，其中所述递增步长的所述持续时间是恒定的。

11.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述电压波形包括所述第一电压和所述第二电压之间的斜升。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述斜升介于每分钟0.1V至2.0V之间。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述斜升具有恒定斜率。

14.根据权利要求12所述的方法，其中所述斜升具有可变斜率。

15.根据权利要求12所述的方法，其中所述斜升在更低电压下的斜率小于在更高电压下的斜率。

16.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中将施加所述电压波形的步骤施加到未经减薄的膜。

17.根据权利要求16所述的方法，其进一步包括用所述施加的电压波形减薄所述未经减薄的膜。

18.根据权利要求1所述的方法，其中所述电源AC耦合至所述工作电极。

19.根据权利要求1所述的方法，其中所述AC调制分量具有小于100mV的振幅。

20.根据权利要求1所述的方法，其中所述AC调制分量具有介于10Hz和1000Hz之间的频率。