[发明专利]用于化学机械研磨后(POST-CMP)钴衬底的清洗的组合物和方法

权利要求书

1.一种用于从上面有残留物和污染物的微电子装置清洗所述残留物和污染物的清洗组合物，所述清洗组合物包含至少一种络合剂、至少一种清洗添加剂、至少一种pH调节剂、水和至少一种氧胺化合物或其盐。

2.根据权利要求1所述的清洗组合物，其中所述络合剂包含选自由以下组成的群组的物种：氨基乙基乙醇胺、N-甲基氨基乙醇、氨基乙氧基乙醇、二甲基氨基乙氧基乙醇、二乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、单乙醇胺(MEA)、三乙醇胺(TEA)、异丙醇胺、二异丙醇胺、氨基丙基二乙醇胺、N,N-二甲基丙醇胺、N-甲基丙醇胺、1-氨基-2-丙醇、2-氨基-1-丁醇、异丁醇胺、三亚乙基二胺、4-(2-羟基乙基)吗啉(HEM)、1,2-环己二胺-N,N,N',N'-四乙酸(CDTA)、乙二胺四乙酸(EDTA)、间二甲苯二胺(MXDA)、亚氨二乙酸(IDA)、2-(羟基乙基)亚氨二乙酸(HIDA)、次氮基三乙酸、硫脲、1,1,3,3-四甲基脲、脲、脲衍生物、尿酸、丙氨酸、精氨酸、天冬酰胺、天冬氨酸、半胱氨酸、谷氨酸、谷氨酰胺、组氨酸、异亮氨酸、亮氨酸、赖氨酸、甲硫氨酸、苯丙氨酸、脯氨酸、丝氨酸、苏氨酸、色氨酸、酪氨酸、缬氨酸、1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸(HEDP)、1,5,9-三氮杂环十二烷-N,N',N”-三(亚甲基膦酸)(DOTRP)、1,4,7,10-四氮杂环十二烷-N,N,N”,N”'-四(亚甲基膦酸)(DOTP)、次氮基三(亚甲基)三膦酸、二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)(DETAP)、氨基三(亚甲基膦酸)、双(亚己基)三胺亚戊基膦酸、1,4,7-三氮杂环壬烷-N,N',N”-三(亚甲基膦酸(NOTP)、羟基乙基二膦酸酯、次氮基三(亚甲基)膦酸、2-膦酰基-丁烷-1,2,3,4-四甲酸、羧基乙基膦酸、氨基乙基膦酸、草甘膦、乙二胺四(亚甲基膦酸)苯基膦酸、草酸、丁二酸、顺丁烯二酸、苹果酸、丙二酸、己二酸、邻苯二甲酸、柠檬酸、柠檬酸钠、柠檬酸钾、柠檬酸铵、丙三羧酸、三羟甲基丙酸、酒石酸、葡萄糖醛酸、2-羧基吡啶、4,5-二羟基-1,3-苯二磺酸二钠盐和其组合。

3.根据权利要求1所述的清洗组合物，其中所述清洗组合物包含约0.1wt％到约10wt％的所述络合剂。

4.根据权利要求1所述的清洗组合物，其中所述清洗添加剂包含选自由以下组成的群组的物种：2-吡咯烷酮、1-(2-羟基乙基)-2-吡咯烷酮(HEP)、甘油、1,4-丁二醇、四亚甲基砜(环丁砜)、二甲砜、乙二醇、丙二醇、二丙二醇、四乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚、甲基异丁基酮、甲基乙基酮、丙酮、异丙醇、辛醇、乙醇、丁醇、甲醇、异佛尔酮、二醇醚(例如二乙二醇单甲醚、三乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、三乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚(DEGBE)、三乙二醇单丁醚(TEGBE)、乙二醇单己醚(EGHE)、二乙二醇单己醚(DEGHE)、乙二醇苯醚、二乙二醇苯醚、六乙二醇单苯醚、丙二醇甲醚、二丙二醇甲醚(DPGME)、三丙二醇甲醚(TPGME)、二丙二醇二甲醚、二丙二醇乙醚、丙二醇正丙醚、二丙二醇正丙醚(DPGPE)、三丙二醇正丙醚、丙二醇正丁醚(例如DOWANOL PnB)、二丙二醇正丁醚、三丙二醇正丁醚、二丙二醇苯醚、丙二醇苯醚(PPh，例如DOWANOLPPh)、4-甲基-2-戊酮、2,4-二甲基-3-戊酮、环己酮、5-甲基-3-庚酮、3-戊酮、5-羟基-2-戊酮、2,5-己二酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、丙酮、丁酮、2-甲基-2-丁酮、3,3-二甲基-2-丁酮、4-羟基-2-丁酮、环戊酮、2-戊酮、3-戊酮、1-苯基乙酮、苯乙酮、二苯甲酮、2-己酮、3-己酮、2-庚酮、3-庚酮、4-庚酮、2,6-二甲基-4-庚酮、2-辛酮、3-辛酮、4-辛酮、二环己基酮、2,6-二甲基环己酮、2-乙酰基环己酮、2,4-戊二酮、薄荷酮、二甲亚砜(DMSO)、二甲基甲酰胺(DMF)、N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、羟基丙基纤维素、羟基乙基纤维素、羧甲基纤维素、羧甲基纤维素钠(NaCMC)、十二烷基硫酸钠(SDS)；Surfynol 104、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、聚氨基酸、聚酰胺羟基氨基甲酸酯、聚内酯、聚丙烯酰胺、黄原胶、壳聚糖、聚氧化乙烯、聚乙烯醇、聚乙酸乙烯酯、聚丙烯酸、聚乙烯亚胺、山梨糖醇酯、木糖醇、脱水山梨糖醇的酯、仲醇乙氧基化物、海藻酸钾、海藻酸铵、聚(乙二醇甲基丙烯酸酯)和其组合。