[发明专利]氧化锆烧结体在审
申请号: | 201980084689.1 | 申请日: | 2019-12-16 |
公开(公告)号: | CN113164239A | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 原田进司;山田芳久 | 申请(专利权)人: | 可乐丽则武齿科株式会社 |
主分类号: | A61C13/08 | 分类号: | A61C13/08;A61C13/083;A61C5/70 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 马倩;彭昶 |
地址: | 日本冈山县*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化锆 烧结 | ||
1.氧化锆烧结体,其是具有底面和侧面的柱体状的氧化锆烧结体,该底面的外形并非正方形或长方形,是具有至少1个直线部的形状。
2.根据权利要求1所述的氧化锆烧结体,其具有在与前述底面垂直的方向上层叠有2层以上的层叠结构。
3.根据权利要求1或2所述的氧化锆烧结体,其中,在前述底面中具有凹陷。
4.根据权利要求3所述的氧化锆烧结体,其中,前述凹陷具有相对于柱体状的高度而言45%以下的深度、和前述底面中的12mm以下的最大长度。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的氧化锆烧结体,其中,前述底面的外形是至少1个曲线部与至少1个直线部组合得到的形状。
6.根据权利要求5所述的氧化锆烧结体,其中,前述曲线部是选自圆弧、椭圆弧、抛物线和悬垂线中的至少1种。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的氧化锆烧结体,其中,前述外形具有至少1个凹部。
8.根据权利要求7所述的氧化锆烧结体,其中,前述外形具有至少2个凹部,前述凹部具有在与前述底面垂直的方向上延伸的形状、即后退部、以及在2个前述后退部之间具有限缩部。
9.根据权利要求8所述的氧化锆烧结体,其具有与前述限缩部接触的主体部、以及包含前述限缩部的同时与前述主体部相比前述底面的面积更小的柄部。
10.根据权利要求9所述的氧化锆烧结体,其中,前述柄部具有与前述主体部相同的高度。
11.根据权利要求9或10所述的氧化锆烧结体,其中,前述主体部的最大宽度为20mm以上,前述柄部的最小宽度大于4mm。
12.根据权利要求1~11中任一项所述的氧化锆烧结体,其含有氧化锆、和能够抑制氧化锆的相变的稳定剂,
在从氧化锆烧结体的一端起向另一端的第1方向上延伸的直线上,
将处于从前述一端起至全长的25%为止的区间的第1点的基于L*a*b*表色系统的(L*,a*,b*)记作(L1,a1,b1),
将处于从前述另一端起至全长的25%为止的区间的第2点的基于L*a*b*表色系统的(L*,a*,b*)记作(L2,a2,b2)时,
L1为68.0以上且90.0以下,
a1为-3.0以上且4.5以下,
b1为0.0以上且24.0以下,
L2为60.0以上且85.0以下,
a2为-2.0以上且7.0以下,
b2为4.0以上且28.0以下,
L1>L2,
a1<a2,
b1<b2,
从前述第1点起向前述第2点基于L*a*b*表色系统的(L*,a*,b*)的增减倾向不发生变化。
13.根据权利要求12所述的氧化锆烧结体,其中,L1-L2大于0且为12.0以下,
a2-a1大于0且为6.0以下,
b2-b1大于0且为12.0以下。
14.根据权利要求12或13所述的氧化锆烧结体,其中,在连接前述第1点与前述第2点的直线上,
从前述第1点起向前述第2点不存在L*值增加1以上的区间,
从前述第1点起向前述第2点不存在a*值减少1以上的区间,
从前述第1点起向前述第2点不存在b*值减少1以上的区间。
15.牙科用修复物,其具有权利要求1~14中任一项所述的氧化锆烧结体。
16.根据权利要求15所述的牙科用修复物,其具有用于安装在加工装置上的安装工具、和前述氧化锆烧结体。
17.氧化锆预煅烧体,其通过煅烧而形成权利要求1~14中任一项所述的氧化锆烧结体。
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