[发明专利]用于流体技术应用的密封膜和带有密封膜的止回阀在审
申请号: | 201980084957.X | 申请日: | 2019-12-02 |
公开(公告)号: | CN113439174A | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
发明(设计)人: | J·科赫;C·阿曼;M·斯托尔珀 | 申请(专利权)人: | 安沃驰有限责任公司 |
主分类号: | F16K15/14 | 分类号: | F16K15/14 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 万宇;陈浩然 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 流体 技术 应用 密封 带有 止回阀 | ||
1.一种密封膜(1),包括面型的弯曲弹性的密封区段,其可以以流体压力弯曲或成拱形,其特征在于,在所述密封区段的面上或相邻于所述密封区段的面间隔于所述密封区段的边缘至少一个形状弹性的摩擦齿(4)如此地构造或布置,使得其与所述密封区段形成在30°至150°之间的角度且一起随着面型的密封区段的弯曲或拱形运动倾斜,其中,所述摩擦齿在倾斜方向上指向的侧面处具有接触面(7)。
2.根据权利要求1所述的密封膜(1),其具有边缘区域(2)和中心区域(3),其特征在于,在所述边缘区域(2)中设置有至少一个密封区段或所述边缘区域(2)通常构造成密封区段。
3.根据权利要求2所述的密封膜(1),在其中所述边缘区域(2)通常构造成密封区段,其特征在于,多个摩擦齿(4)相应地在整个密封区段上等间隔于所述密封区段的边缘且相应地彼此间隔地构造或布置。
4.根据权利要求3所述的密封膜(1),其特征在于,所述摩擦齿(4)相应地彼此等间隔或变化间隔地构造或布置。
5.根据权利要求3或4所述的密封膜(1),其特征在于,该密封膜具有圆形的底面且所述摩擦齿呈环形地构造或布置。
6.根据权利要求4所述的密封膜,其特征在于,在所述中心区域(3)中构造有至少一个流通开口(5)且围绕该流通开口伸延地形成夹紧面或法兰面或空心凸肩(8)。
7.一种用于流体技术的出口开口的止回阀(9),包括带有流体出口(12)的壳体件(10),其特征在于,在所述出口开口的流动路径中布置有根据权利要求1至5中任一项所述的密封膜(1),其以密封区段逆着所述流动方向贴靠在密封座的密封面处且以流体压力在流动方向上可弯曲或成拱形,其中,所述至少一个摩擦齿(4)的接触面(7)同时贴靠到与其对应的贴靠面处。
8.根据权利要求6所述的止回阀(9),带有根据权利要求5所述的密封膜(1),该密封膜构造成带有中间的流通开口(5),围绕该流通开口周围形成空心凸肩(8),其特征在于,所述流体出口构造成带有对应的空心凸肩(13)且所述密封膜(1)可被插上到该空心凸肩上或可被插入到该空心凸肩中,且圆形的在横截面上呈帽子状的罩盖(14)可被紧固在所述密封膜(1)的背对所述流体出口(12)的侧上,其中,所述罩盖(14)的头部件的环绕的侧面(14a)在周缘侧包围呈环形构造或布置的摩擦齿(4)且所述罩盖(14)的环绕的内边缘区段(14c)以如下方式形成带有密封面的密封座,即,其相对所述密封区段的平面在壳体的方向上倾斜地构造,从而边缘侧的密封区段在略微的弯曲或拱形位置中在预紧的情形下齐平地贴靠在内边缘区段(14c)处,且其中,所述罩盖(14)形成另一环绕所述内边缘区段(14c)的外边缘区段(14d),其由齿廓形成或设计成带有通过开口的连续的轴环且所述罩盖(14)可利用其被紧固在壳体处或在壳体中,且其中,在边缘侧的密封区段下方形成空腔(15),该密封区段在流体压力的情形下在弯曲或拱形运动中可接合到该空腔中,其中,所述摩擦齿(4)倾斜且以其接触面(7)贴靠到所述罩盖(14)的头部件的环绕的侧面(14a)的形成所述贴靠面的内侧处。
9.根据权利要求7所述的止回阀(9),其特征在于,所述密封膜(1)在所述中心区域(3)中具有多个呈环形围绕所述空心凸肩(8)构造或布置的稳定齿(6)。
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