[发明专利]适合于齿科用途的氧化锆预烧体有效
申请号: | 201980086189.1 | 申请日: | 2019-12-26 |
公开(公告)号: | CN113194905B | 公开(公告)日: | 2023-05-30 |
发明(设计)人: | 加藤新一郎;伊藤承央 | 申请(专利权)人: | 可乐丽则武齿科株式会社 |
主分类号: | A61K6/849 | 分类号: | A61K6/849;C01G25/00;A61C13/083;C04B35/486 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 陈巍;林毅斌 |
地址: | 日本冈山县*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 适合于 齿科 用途 氧化锆 预烧体 | ||
1.氧化锆预烧体,其含有氧化锆和能够抑制氧化锆相变的稳定剂,
氧化锆的主要结晶系为单斜晶系,所述稳定剂为氧化钇,
所述氧化锆预烧体具备氧化钇相对于氧化锆与氧化钇的合计摩尔的含有率不同的多个层,
在从所述氧化锆预烧体的一端朝向另一端的第一方向上延伸的直线上,
从所述一端朝向另一端,氧化钇相对于氧化锆与氧化钇的合计摩尔的含有率的增减倾向不变,相对于所述氧化锆与所述氧化钇的合计摩尔,包含所述一端的层的氧化钇的含有率与包含所述另一端的层的氧化钇的含有率之差为0.3mol%以上。
2.根据权利要求1所述的氧化锆预烧体,其中,所述氧化锆的55%以上为单斜晶系。
3.根据权利要求1或2所述的氧化锆预烧体,其中,所述氧化锆的75%以上为单斜晶系。
4.根据权利要求1或2所述的氧化锆预烧体,其中,所述稳定剂的至少一部分未固溶于氧化锆。
5.根据权利要求1或2所述的氧化锆预烧体,其密度为2.7~4.0g/cm3。
6.根据权利要求1或2所述的氧化锆预烧体,其弯曲强度为15~70MPa。
7.根据权利要求1所述的氧化锆预烧体,其中,在从所述氧化锆预烧体的一端朝向另一端的第一方向上延伸的直线上,
从所述一端朝向另一端,氧化钇相对于氧化锆与氧化钇的合计摩尔的含有率的增减倾向不变,
相对于所述氧化锆与所述氧化钇的合计摩尔,
包含所述一端的层的氧化钇的含有率为4.5mol%以上且7.0mol%以下,
包含所述另一端的层的氧化钇的含有率为2.0mol%以上且小于4.5mol%。
8.根据权利要求1所述的氧化锆预烧体,其中,在从所述氧化锆预烧体的一端朝向另一端的第一方向上延伸的直线上,
从所述一端朝向另一端,氧化钇相对于氧化锆与氧化钇的合计摩尔的含有率的增减倾向不变,
相对于所述氧化锆与所述氧化钇的合计摩尔,
包含所述一端的层与包含所述另一端的层的氧化钇的含有率之差为4.0mol%以下。
9.根据权利要求1所述的氧化锆预烧体,其中,在X射线衍射图案中存在氧化钇的峰。
10.根据权利要求1所述的氧化锆预烧体,其中,基于下述数学式(1)而算出的fy大于0%,[数学式1]
其中,Iy(111)表示基于CuKα射线的X射线衍射图案中的2θ=29°附近的氧化钇的(111)面的峰强度,
Im(111)和Im(11-1)表示所述X射线衍射图案中的氧化锆的单斜晶系的(111)面和(11-1)面的峰强度,
It(111)表示所述X射线衍射图案中的氧化锆的正方晶系的(111)面的峰强度,
Ic(111)表示所述X射线衍射图案中的氧化锆的立方晶系的(111)面的峰强度。
11.根据权利要求10所述的氧化锆预烧体,其中,所述fy为13%以下。
12.根据权利要求10或11所述的氧化锆预烧体,其中,在从所述氧化锆预烧体的一端朝向另一端的第一方向上延伸的直线上,
从所述一端朝向另一端,氧化钇相对于氧化锆与氧化钇的合计摩尔的含有率的增减倾向不变,
在包含所述一端的层中,所述fy为1%以上。
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