[发明专利]单晶X射线结构解析装置用试样保持架、试样保持架组件以及吸藏方法

权利要求书

1.一种试样保持架，是在单晶X射线结构解析装置中使用的试样保持架，其特征在于，具备：

基台部，安装于所述单晶X射线结构解析装置的测角仪；

试样保持部，形成于所述基台部，保持能够在形成于内部的多个微细孔吸藏所述试样的细孔性络合物结晶；以及

试样导入结构，形成于所述基台部，导入用于使所述细孔性络合物结晶吸藏的所述试样。

2.根据权利要求1所述的试样保持架，其中，

所述试样保持部形成为从所述基台部延伸的突起状，在其前端保持所述细孔性络合物结晶，

所述细孔性络合物结晶以保持在所述试样保持部的状态下吸藏所述试样。

3.根据权利要求2所述的试样保持架，其中，

所述试样保持部形成有从所述基台部穿到所述突起状的前端部的贯通孔，

所述细孔性络合物结晶以保持在所述贯通孔内的状态吸藏所述试样。

4.根据权利要求1所述的试样保持架，其中，

所述试样保持部形成为从所述基台部延伸的突起状的贯通孔，在所述贯通孔的内部具有试样保持区域，

吸藏有所述试样的细孔性络合物结晶从所述试样保持区域外移动到所述试样保持区域内，被保持在所述试样保持区域中。

5.根据权利要求3或4所述的试样保持架，其中，

所述贯通孔的前端部形成为倒锥形形状，

所述细孔性络合物结晶被保持在所述倒锥形形状的边界的狭窄部。

6.根据权利要求3或4所述的试样保持架，其中，

所述贯通孔的前端部形成为锥形形状，

所述细孔性络合物结晶被保持在所述锥形形状的边界的狭窄部。

7.根据权利要求3～6中的任一项所述的试样保持架，其中，

所述试样导入结构包括所述贯通孔，

所述贯通孔被用于所述试样的导入或者排出。

8.根据权利要求1～7中的任一项所述的试样保持架，其中，

所述试样保持部由X射线透过性的材料构成。

9.一种试样保持架组件，是由在单晶X射线结构解析装置中使用的试样保持架和收纳所述试样保持架的敷料器构成的试样保持架组件，其特征在于，

所述试样保持架具备：

基台部，安装于所述单晶X射线结构解析装置的测角仪；

试样保持部，形成于所述基台部，保持能够在形成于内部的多个微细孔吸藏所述试样的细孔性络合物结晶；以及

试样导入结构，形成于所述基台部，导入用于使所述细孔性络合物结晶吸藏的所述试样，

所述敷料器具备：

收纳所述试样保持架的收纳空间以及开口部；以及

密封部，设置于与收纳于所述收纳空间的所述试样保持架的接触面，

所述细孔性络合物结晶以在所述敷料器收纳有所述试样保持架的状态而吸藏通过所述试样导入结构导入的试样。

10.根据权利要求9所述的试样保持架组件，其中，

所述试样保持部形成为从所述基台部延伸的突起状，在其前端保持所述细孔性络合物结晶，

所述细孔性络合物结晶以被保持于所述试样保持部的状态而吸藏所述试样。

11.根据权利要求9所述的试样保持架组件，其中，

所述试样保持部形成为从所述基台部延伸的突起状，

所述试样导入结构是从所述基台部穿到所述试样保持部的贯通孔，

所述细孔性络合物结晶以保持在所述贯通孔内的状态而吸藏所述试样。

12.根据权利要求11所述的试样保持架组件，其中，

所述试样保持架的所述贯通孔的前端部形成为倒锥形形状，

所述细孔性络合物结晶被保持在所述倒锥形形状的边界的狭窄部。