[发明专利]使用低相干干涉测量法测量包括不同结构的物体表面的方法和系统

权利要求书

1.一种用于使用低相干光学干涉测量法测量包括至少一个结构(41、42)的物体(17)的表面的方法(100)，所述方法(100)包括以下步骤：

-在视场中的所述表面的多个点处获取(102)干涉测量信号，所述点称为测量点；

-根据所述视场的同质区域分配所述测量点的干涉测量信号，其中，所述区域根据预定准则是同质的；

对于至少一个测量点：

-根据所述测量点所属的同质区域中的所获取的干涉测量信号来识别与表示典型结构的参考干涉测量信号相关联的类别；

-将所获取的干涉测量信号归属(104)于所述类别；以及

-对所述干涉测量信号进行分析(114)，以便根据其类别从该干涉测量信号中得出关于测量点处的结构的信息。

2.根据权利要求1所述的方法(100)，其特征在于，将所述干涉测量信号归属于所述类别的步骤(104)包括初始化类别的步骤(106)。

3.根据权利要求2所述的方法(100)，其特征在于，初始化类别的步骤(106)包括提供以下元素中的至少一个：

-类别列表；

-存在于视场中的类别的数量的先验估计。

4.根据权利要求3所述的方法(100)，其特征在于，提供类别列表包括以下步骤中的至少一个：

-基于具有已知结构的参考表面上的干涉测量信号的测量来确定类别；

-根据存在于所述物体的表面上的结构的先验知识来确定类别。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法(100)，其特征在于，所述方法包括通过利用干涉测量信号的强度、反射率或光谱反射率来确定所述同质区域。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的方法(100)，其特征在于，将所述干涉测量信号归属于所述类别的步骤(104)包括将所获取的干涉测量信号与所述参考干涉测量信号进行比较。

7.根据权利要求6所述的方法(100)，其特征在于，所述比较包括确定所获取的干涉测量信号与参考干涉测量信号之间的距离的步骤。

8.根据权利要求1-4中任一项所述的方法(100)，其特征在于，将所述干涉测量信号归属于所述类别的步骤(104)包括以下步骤的迭代(112)：

-将所述干涉测量信号与类别相关联(108)；

-对于每个类别，根据归属于该类别的干涉测量信号来确定(110)新的参考干涉测量信号，

其中，继续所述迭代(112)直到预定的收敛准则被满足。

9.根据权利要求1-4中任一项所述的方法(100)，其特征在于，分析所述干涉测量信号的步骤(114)包括根据所述干涉测量信号的类别来识别结构或结构的特性。

10.根据权利要求1-4中任一项所述的方法(100)，其特征在于，分析所述干涉测量信号的步骤(114)包括通过应用取决于所述干涉测量信号的类别的光谱反射模型来确定一个或更多个透明层的厚度。

11.根据权利要求1-4中任一项所述的方法(100)，其特征在于，分析所述干涉测量信号的步骤(114)包括通过考虑所述干涉测量信号的取决于其类别的相移因子来确定测量点处的表面的高度。

12.根据权利要求1-4中任一项所述的方法(100)，其特征在于，所述获取步骤(102)通过测量执行全场测量的传感器(11)的每个像素的干涉测量信号来执行，其中，所述传感器(11)的视场的每个像素对应于测量点。

13.根据权利要求1-4中任一项所述的方法(100)，其特征在于，所述方法通过半导体衬底类型的物体(17)来实现。