[发明专利]用于容器的等离子体处理的设备和方法

权利要求书

1.一种用于容器（5）的等离子体处理的设备，具有用于生成过程气体混合物的过程气体发生器（100）和至少一个涂布站（3），所述至少一个涂布站包括至少一个具有处理站（40）的等离子体室（17），其中在所述等离子体室中至少一个具有容器内部（5.1）的容器（5）可以被替换并定位在所述处理站（40）处，其中相应的等离子体室（17）被配置为至少部分地可抽空，以便通过所述容器（5）抽吸由所述过程气体发生器（100）提供的过程气体，所述容器通过等离子体处理给其内部提供内部涂布，并且其中压力测量设备（79，96-98）被提供在所述设备的预定位置处以便确保过程稳定性，

其特征在于

所述压力测量设备（79，96-98）至少在所述设备的预定位置的一部分处包括依赖于气体类型的压力换能器（86）。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，测量所述过程气体发生器（100）中的压力的压力测量设备（96-98）各自包括依赖于气体类型的压力换能器（86）和独立于气体类型的压力换能器（99）。

3.根据权利要求2所述的设备，其中，由依赖于气体类型的压力换能器（86）测量的压力值和由独立于气体类型的压力换能器（99）测量的压力值之间的相对偏差能够被评估以控制过程气体成分。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的设备，其中，测量所述涂布站（3）的等离子体室（17）中的压力的至少一个压力测量设备（79）仅包括依赖于气体类型的压力换能器（86）。

5.根据权利要求4所述的设备，其中，所述涂布站（3）的等离子体室（17）中的过程质量、尤其过程气体混合物的改变能够根据由依赖于气体类型的压力换能器（86）测量的压力值来确定。

6.根据权利要求4或5所述的设备，其中，过程影响的类型能够根据由依赖于气体类型的压力换能器（86）测量的压力值来确定。

7.根据权利要求4、5或6所述的设备，其中，在多个涂布站（3）的情况下，相应等离子体室（17）中的过程气体混合物的改变能够通过评估能够在等离子体室（17）那里测量的压力值来推断。

8.根据权利要求4至7中任一项所述的设备，其中，由依赖于气体类型的压力换能器（86）测量的压力值能够与过程识别的另外的测量值相组合，以产生用于加速故障排除的诊断。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的设备，其中，依赖于气体类型的压力换能器（86）是Pirani测压元件。

10.根据权利要求9所述的设备，其中，Pirani测压元件各自能够基于不同热导率的两种气体与独立于气体类型的压力换能器（99）组合地进行验证，用于在用SiOx扩散阻挡层涂布PET瓶子时确定气体成分，并且其中Pirani测压元件各自在偏差的情况下是可校正的。

11.一种用于等离子体处理设备中的容器（5）的等离子体处理的方法，包括以下方法步骤：

-通过过程气体发生器（100）生成过程气体混合物，

-在涂布站（3）的至少一个等离子体室（17）的处理站（40）处插入并定位具有容器内部（5.1）的容器（5），

-至少部分地抽空相应的等离子体室（17），以通过容器（5）抽吸由过程气体发生器（100）提供的过程气体，从而通过等离子体处理给容器的内部提供内部涂布，以及

-在等离子体处理设备的预定位置处利用压力测量设备（79，96-98）测量压力，以确保过程稳定性，

其特征在于，

-在等离子体处理设备的预定位置处利用包括依赖于气体类型的压力换能器（86）的压力测量设备（79，96-98）测量压力。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述等离子体处理设备是根据权利要求1至10中任一项所述的设备。