[发明专利]用于从入射电磁波形成输出电磁波的器件在审
申请号: | 201980090890.0 | 申请日: | 2019-12-17 |
公开(公告)号: | CN113383265A | 公开(公告)日: | 2021-09-10 |
发明(设计)人: | 阿提姆·鲍里斯金;瓦尔特·德拉齐克;奥克萨那·什拉姆科娃 | 申请(专利权)人: | 交互数字CE专利控股公司 |
主分类号: | G02B27/56 | 分类号: | G02B27/56;B82Y20/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 入射 电磁波 形成 输出 器件 | ||
1.一种从入射电磁波形成输出电磁波的光学器件,其中它包括至少一个单位单元,所述单位单元包括:
-至少两个光学元件,光学元件的特征在于对所述入射电磁波的光学响应类型;
-选择装置,其能够响应于所述入射电磁波,根据所述入射电磁波的波长,选择性地激发所述至少两个光学元件中的至少一个光学元件,其中所述选择装置包括至少一种基于纳米射流的介电偏转器复合物,该复合物由具有不同折射率的至少两种介电材料构成,并且其中所述光学元件被放置在距所述基于纳米射流的介电偏转器一定距离处。
2.根据权利要求1所述的光学器件,其中由具有不同折射率的至少两种介电材料构成的所述基于纳米射流的介电偏转器复合物至少包括:具有第一折射率n2的介电材料的第一部分和具有第二折射率n3的介电材料的第二部分,其中所述第一部分和所述第二部分被嵌入在具有折射率n1的均匀介电主介质中,并且其中n1n3n2。
3.根据权利要求2所述的光学器件,其中所述光学器件与由轴x、y和z限定的三维笛卡尔坐标系相关联,其中所述z轴垂直于所述光学器件,所述基于纳米射流的介电偏转器的所述第一部分和所述第二部分沿着所述x轴并排定位,其中所述光学器件的基于纳米射流的介电偏转器沿着所述x轴被所述主介质的层分开。
4.根据权利要求3所述的光学器件,其中根据具有平面xz的横截面:
-所述第一部分具有沿所述x轴的第一宽度W1,所述第二部分具有沿所述x轴的第二宽度W2,其中所述宽度W1和W2分别等于或高于分别在所述第一部分和所述第二部分中传播的所述入射电磁波的波长的一半,
所述第一部分和所述第二部分沿所述z轴具有相同的高度H,其中θB1是由沿所述基于纳米射流的介电偏转器的所述z轴的第一边缘产生的第一纳米射流束的辐射角,所述第一边缘介于所述第一部分和所述主介质之间,并且θB3是由沿所述基于纳米射流的介电偏转器的所述z轴的第二边缘产生的第二纳米射流束的辐射角,所述第二边缘介于所述第二部分和所述主介质之间。
5.根据权利要求4所述的光学器件,其中,所述距离小于或等于HC-HB,其中HC和HB是所述基于纳米射流的介电偏转器的底部与纳米射流束的交点之间的距离,所述纳米射流束与所述基于纳米射流的介电偏转器的所述第一部分和第二部分的边缘相关联,且θB2是由沿着所述基于纳米射流的介电偏转器的所述z轴的边缘产生的第三纳米射流束的辐射角,所述边缘在所述基于纳米射流的介电偏转器的所述第一部分和所述第二部分之间,且
6.根据权利要求3所述的光学器件,其中在所述光学器件中沿所述x轴的两个基于基于纳米射流的介电偏转器之间的距离W3大于或等于与蓝色的波长对应的波长的一半。
7.根据权利要求3至6所述的光学器件,其中所述基于纳米射流的介电偏转器的所述第二部分的折射率n3满足
8.根据权利要求3至7所述的光学器件,其中所述基于纳米射流的介电偏转器的所述第一部分和所述第二部分具有立方体的形状,或者其中所述基于纳米射流的介电偏转器具有半圆柱体的形状,所述半圆柱体具有沿着所述z轴的轴,其中所述第二部分是半径为R2的半圆柱体,其围绕所述第一部分,该第一部分是半径为R1的半圆柱体。
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