[发明专利]平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法有效

专利信息
申请号: 201980091004.6 申请日: 2019-12-26
公开(公告)号: CN113474178B 公开(公告)日: 2023-09-15
发明(设计)人: 榎本和朗;荒木健次郎 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/004;G03F7/11;B41N1/14;B41C1/10;B41M1/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 薛海蛟
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 平版印刷 原版 制作方法 方法
【权利要求书】:

1.一种平版印刷版原版,其具有支承体以及所述支承体上的图像记录层,

所述图像记录层含有包含树脂的有机粒子,所述树脂具备具有阳离子部位的构成单元A和具有阴离子部位的构成单元B,所述阳离子部位为包含氮原子的基团,形成所述具有阳离子部位的构成单元A的单体为烯属不饱和化合物,形成所述具有阴离子部位的构成单元B的单体为烯属不饱和化合物,

所述图像记录层为机上显影型图像记录层。

2.根据权利要求1所述的平版印刷版原版,其中,

所述有机粒子中所包含的所述树脂中的所述构成单元A及所述构成单元B的合计含量相对于树脂的总质量超过5质量%。

3.根据权利要求1或2所述的平版印刷版原版,其中,

所述构成单元B具有选自由羧酸基、酚性羟基、磺酸基、磷酸基及酰亚胺基组成的组中的至少一种基团。

4.根据权利要求1所述的平版印刷版原版,其中,

所述有机粒子中所包含的树脂包含加成聚合型树脂。

5.根据权利要求1所述的平版印刷版原版,其中,

所述树脂中的所述构成单元A及所述构成单元B的合计含量相对于所述树脂的总质量超过20质量%,并且所述构成单元A的含量相对于所述树脂的总质量为10质量%以上。

6.根据权利要求1所述的平版印刷版原版,其中,

所述树脂还具备具有亲水性基团的构成单元。

7.根据权利要求6所述的平版印刷版原版,其中,

所述亲水性基团具有下述式Z所表示的基团,

-Q-W-Y    式Z

在式Z中,Q表示二价的连接基,w表示具有亲水性结构的二价的基团或具有疏水性结构的二价的基团,Y表示具有亲水性结构的一价的基团或具有疏水性结构的一价的基团,其中,W及Y中的任意者具有亲水性结构。

8.根据权利要求6所述的平版印刷版原版,其中,

所述亲水性基团具备具有聚环氧烷结构的基团。

9.根据权利要求6所述的平版印刷版原版,其中,

所述亲水性基团具有磺酸盐基或磺酸基。

10.根据权利要求6至9中任一项所述的平版印刷版原版,其中,

所述树脂中的所述具有亲水性基团的构成单元的含量相对于所述树脂的总质量为1质量%以上且小于20质量%。

11.根据权利要求1所述的平版印刷版原版,其中,

所述有机粒子包含在表面上具有烯属不饱和基团的有机粒子。

12.根据权利要求1所述的平版印刷版原版,其中,

所述图像记录层还包含红外线吸收剂。

13.根据权利要求1所述的平版印刷版原版,其中,

所述图像记录层还包含聚合引发剂及聚合性化合物。

14.根据权利要求1所述的平版印刷版原版,其中,

所述图像记录层还包含粘合剂聚合物。

15.根据权利要求1所述的平版印刷版原版,其中,

在所述图像记录层上还具有保护层。

16.根据权利要求15所述的平版印刷版原版,其中,

所述保护层包含无机层状化合物。

17.根据权利要求1所述的平版印刷版原版,其中,

所述图像记录层为负型图像记录层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980091004.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top