[发明专利]用于钨化学机械抛光的组合物

权利要求书

1.用于抛光具有钨层的基板的化学机械抛光组合物，该组合物包含：

基于水的液体载剂；

0.01重量％-20重量％的分散在该液体载剂中的阳离子型研磨剂颗粒；

0.01重量％-2重量％的具有小于7的等电点的第一氨基酸化合物；

0.001重量％-1重量％的具有大于7的等电点的第二氨基酸化合物；

含铁的促进剂；

过氧化氢氧化剂；及

在1至5的范围内的pH。

2.根据权利要求1所述的组合物，其具有在3至5的范围内的pH。

3.根据权利要求1所述的组合物，其中，该第一氨基酸化合物选自丙氨酸、苯丙氨酸、甘氨酸、亮氨酸、异亮氨酸、脯氨酸、酪氨酸、缬氨酸、谷氨酸及其混合物。

4.根据权利要求1所述的组合物，其中，该第一氨基酸化合物选自甘氨酸、缬氨酸、丙氨酸及其混合物。

5.根据权利要求1所述的组合物，其中，该第二氨基酸化合物选自组氨酸、精氨酸、赖氨酸及其混合物。

6.根据权利要求1所述的组合物，其中，该第一氨基酸化合物为甘氨酸且该第二氨基酸化合物为精氨酸。

7.根据权利要求1所述的组合物，包含：

0.05至1重量％的该第一氨基酸化合物；及

0.005至0.2重量％的该第二氨基酸化合物。

8.根据权利要求1所述的组合物，其中，该阳离子型研磨剂颗粒在该组合物中具有在10mV至40mV的范围内的ζ电位。

9.根据权利要求1所述的组合物，其中：

该阳离子型研磨剂颗粒包括具有永久性正电荷的胶体氧化硅研磨剂颗粒；

该胶体氧化硅研磨剂颗粒在该组合物中具有在10mV至40mV的范围内的ζ电位；

该胶体氧化硅研磨剂颗粒具有大于40nm的平均粒度；及

该组合物具有在3.5至5的范围内的pH。

10.根据权利要求1所述的组合物，进一步包含结合至该含铁的促进剂的稳定剂，该稳定剂选自磷酸、邻苯二甲酸、柠檬酸、己二酸、草酸、丙二酸、天冬氨酸、琥珀酸、戊二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、马来酸、戊烯二酸、粘康酸、乙二胺四乙酸、丙二胺四乙酸及其混合物。

11.用于抛光具有钨层的基板的化学机械抛光组合物，该组合物包含：

基于水的液体载剂；

0.01重量％-20重量％的分散在该液体载剂中的具有永久性正电荷及大于40nm的平均粒度的胶体氧化硅研磨剂颗粒；

该胶体氧化硅研磨剂颗粒在该组合物中具有在10mV至40mV的范围内的ζ电位；

0.01重量％-2重量％的具有小于7的等电点的第一氨基酸化合物；

0.001重量％-1重量％的具有大于7的等电点的第二氨基酸化合物；

含铁的促进剂；

过氧化氢氧化剂；及

在3.5至5的范围内的pH。

12.根据权利要求11所述的组合物，其中，该第一氨基酸化合物选自甘氨酸、缬氨酸、丙氨酸及其混合物且该第二氨基酸化合物选自组氨酸、精氨酸、赖氨酸及其混合物。

13.根据权利要求12所述的组合物，包含：

0.05至1重量％的该第一氨基酸化合物；及

0.005至0.2重量％的该第二氨基酸化合物。

14.根据权利要求11所述的组合物，进一步包含结合至该含铁的促进剂的稳定剂，该稳定剂选自磷酸、邻苯二甲酸、柠檬酸、己二酸、草酸、丙二酸、天冬氨酸、琥珀酸、戊二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、马来酸、戊烯二酸、粘康酸、乙二胺四乙酸、丙二胺四乙酸及其混合物。