[发明专利]一种具有校准模式的图像传感器在审
申请号: | 201980093741.X | 申请日: | 2019-03-29 |
公开(公告)号: | CN113543711A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 刘雨润;曹培炎 | 申请(专利权)人: | 深圳帧观德芯科技有限公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518071 广东省深圳市南山区桃源街道塘朗*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 校准 模式 图像传感器 | ||
1.一种图像传感器,其包括:
第一辐射检测器和第二辐射检测器,其分别包括一个被配置为接收来自辐射源的辐射的平表面;以及
校准图案;
其中所述第一辐射检测器的所述平表面与所述第二辐射检测器的所述平表面不共面;
其中所述图像传感器被配置为分别使用所述第一辐射检测器和所述第二辐射检测器来捕获所述校准图案的第一部分的图像和所述校准图案的第二部分的图像;
其中所述图像传感器被配置为基于所述校准图案的所述第一部分的图像来确定所述第一辐射检测器的第一变换,并基于所述校准图案的所述第二部分的图像来确定所述第二辐射检测器的第二变换;
其中所述图像传感器被配置为分别使用所述第一辐射检测器和所述第二辐射检测器来捕获场景的第一部分的图像和所述场景的第二部分的图像,使用所述第一变换来确定所述场景的所述第一部分的图像在图像平面上的第一投影,并使用所述第二变换来确定所述场景的所述第二部分的图像在所述图像平面上的第二投影,并通过拼接所述第一投影和所述第二投影来形成所述场景的图像。
2.如权利要求1所述的图像传感器,其中所述校准图案具有辐射吸收的不均匀空间分布。
3.如权利要求1所述的图像传感器,其中所述校准图案是平面。
4.如权利要求1所述的图像传感器,其中所述校准图案的第一部分的图像包括所述校准图案的三个特征的图像,其中所述三个特征相对于所述校准图案的位置是已知的。
5.如权利要求1所述的图像传感器,其中所述第一变换是仿射变换。
6.如权利要求1所述的图像传感器,其中所述第一辐射检测器和所述第二辐射检测器被配置为相对于所述辐射源移动。
7.如权利要求6所述的图像传感器,其中所述第一辐射检测器和所述第二辐射检测器被配置为通过相对于所述辐射源旋转或平移从而相对于所述辐射源移动。
8.如权利要求1所述的图像传感器,其中所述第一辐射检测器包括像素阵列。
9.如权利要求1所述的图像传感器,其中所述第一辐射检测器的形状为矩形。
10.如权利要求1所述的图像传感器,其中所述第一辐射检测器的形状为六边形。
11.一种方法,其包括:
使用第一辐射检测器利用来自辐射源的辐射来捕获校准图案的第一部分的图像;
使用第二辐射检测器利用所述辐射来捕获所述校准图案的第二部分的图像;
其中所述第一辐射检测器和所述第二辐射检测器分别包括被配置为接收所述辐射的平表面,并且所述第一辐射检测器的所述平表面与所述第二辐射检测器的所述平表面不共面;
基于所述校准图案的所述第一部分的图像来确定所述第一辐射检测器的第一变换;
基于所述校准图案的所述第二部分的图像来确定所述第二辐射检测器的第二变换;
使用所述第一辐射检测器来捕获场景的第一部分的图像;
使用所述第二辐射检测器来捕获所述场景的第二部分的图像;
使用所述第一变换来确定所述场景的所述第一部分的图像在图像平面上的第一投影;
使用所述第二变换来确定所述场景的所述第二部分的图像在所述图像平面上的第二投影;以及
通过拼接所述第一投影和所述第二投影形成所述场景的图像。
12.如权利要求11所述的方法,其中所述校准图案具有辐射吸收的不均匀空间分布。
13.如权利要求11所述的方法,其中所述校准图案是平面。
14.如权利要求11所述的方法,其中所述校准图案的所述第一部分的图像包括所述校准图案的三个特征的图像,其中所述三个特征相对于所述校准图案的位置是已知的。
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