[发明专利]气体制造系统和气体制造方法

权利要求书

1.一种气体制造系统，是对催化剂照射等离子体、将被处理气体改性以制造生成气体的气体制造系统，具备：

产生电压的电压产生单元；

使用利用所述电压产生单元产生的电压产生对所述催化剂进行照射的等离子体的等离子体产生单元；和

根据所述被处理气体设定所述电压的频率的频率设定单元。

2.根据权利要求1所述的气体制造系统，其具备：

气体制造装置，其具有形成所述被处理气体的流路的反应器、施加利用所述电压产生单元产生的电压的第一电极和第二电极、配置在所述第一电极和第二电极之间且所述流路中的包含所述催化剂的催化剂层；和

将所述被处理气体供给至所述气体制造装置的气体供给单元，

其中，所述电压产生单元为与所述第一电极和所述第二电极连接的外部电源，所述频率设定单元根据所述被处理气体设定所述外部电源产生的电压的频率，在所述第一电极与所述第二电极之间产生等离子体。

3.根据权利要求2所述的气体制造系统，其中，所述第二电极和所述反应器为圆筒状，所述反应器的外周被所述第二电极被覆，所述第一电极配置在所述反应器的中心轴上。

4.根据权利要求2或权利要求3所述的气体制造系统，其中，所述反应器由电介质构成。

5.根据权利要求2至权利要求4中任一项所述的气体制造系统，其中，所述频率设定单元在50Hz以上且13.56MHz以下的范围设定所述外部电源产生的电压的频率。

6.根据权利要求2至权利要求5中任一项所述的气体制造系统，其具备将所述反应器的压力减压的减压单元。

7.根据权利要求6所述的气体制造系统，其中，所述减压单元根据所述外部电源产生的电压的频率，设定所述反应器的压力。

8.根据权利要求6或权利要求7所述的气体制造系统，其中，所述减压单元在1Pa以上且100kPa以下的范围设定所述催化剂层的压力。

9.根据权利要求2至权利要求8中任一项所述的气体制造系统，其具备将所述外部电源产生的电压进一步升压的升压单元。

10.根据权利要求1至权利要求9中任一项所述的气体制造系统，其中，所述被处理气体为烃系的气体和氧化剂气体，所述生成气体为含氢气体。

11.根据权利要求10所述的气体制造系统，其中，所述氧化剂气体为选自水蒸气、二氧化碳气体和氧气中的1种气体、或者2种以上的混合气体。

12.根据权利要求1至权利要求11中任一项所述的气体制造系统，其中，所述催化剂包含选自过渡金属组中的1种或2种以上的元素。

13.根据权利要求1至权利要求12中任一项所述的气体制造系统，其具备将所述催化剂加热的热源。

14.根据权利要求13所述的气体制造系统，其中，所述热源为低温排热，对所述低温排热进行热交换以将所述催化剂加热。

15.一种气体制造方法，是对包含催化剂的催化剂层照射等离子体、将被处理气体改性以制造生成气体的气体制造方法，具备：

向所述催化剂层供给被处理气体的气体供给工序；

产生用于产生所述等离子体的电压的电压产生工序；

使用在所述电压产生工序中产生的所述电压来产生所述等离子体、对所述催化剂层照射等离子体的等离子体照射工序；

根据所述被处理气体设定所述电压的频率的频率设定工序；和

将所述被处理气体改性以制造所述生成气体的改性工序。

16.根据权利要求15所述的气体制造方法，其具备将所述催化剂层的压力减压的减压工序。

17.根据权利要求16所述的气体制造方法，其中，在所述气体供给工序之前，具备将所述催化剂层的压力减压的减压工序。