[发明专利]气体制造系统和气体制造方法

权利要求书

1.一种气体制造系统，是对反应器内的催化剂照射等离子体、将所供给的原料气体和氧化剂气体改性以制造生成气体的气体制造系统，具备：

将所述原料气体向所述反应器供给的原料气体供给单元；

将所述氧化剂气体向所述反应器供给的氧化剂气体供给单元；

使所述原料气体供给单元向所述反应器供给的所述原料气体的供给量与所述氧化剂气体供给单元向所述反应器供给的所述氧化剂气体的供给量的比率变化的气体比率变化单元；和

产生对所述催化剂照射的等离子体的等离子体发生单元。

2.根据权利要求1所述的气体制造系统，其中，所述气体比率变化单元设定所述原料气体的基准供给量，设定以所述基准供给量将所述原料气体向所述反应器供给的时间和以比所述基准供给量少的供给量将所述原料气体向所述反应器供给的时间，基于所述设定的时间改变所述原料气体的向所述反应器的供给量。

3.根据权利要求2所述的气体制造系统，其中，基于由所述原料气体和所述氧化剂气体的种类和反应确定的化学计量比来设定所述基准供给量。

4.根据权利要求2或权利要求3所述的气体制造系统，其中，在将所述原料气体以比所述基准供给量少的供给量向所述反应器供给的时间里，所述气体比率变化单元使所述原料气体的向所述反应器的供给量为零。

5.根据权利要求2至权利要求4中任一项所述的气体制造系统，其具备：

具有所述反应器、在它们之间产生等离子体的第一电极和第二电极、在所述反应器内配置且包含所述催化剂的催化剂层的气体制造装置；和

与所述第一电极和所述第二电极连接、产生电压的外部电源，

其中，利用所述外部电源产生的、施加于所述第一电极和所述第二电极的电压，在所述反应器内产生等离子体。

6.根据权利要求5所述的气体制造系统，其中，根据所述外部电源产生的所述电压的频率，所述气体比率变化单元设定将所述原料气体以所述基准供给量向所述反应器供给的时间和将所述原料气体以比所述基准供给量少的供给量向所述反应器供给的时间。

7.根据权利要求5或权利要求6所述的气体制造系统，其中，所述第二电极和所述反应器为圆筒状，所述第二电极被覆在所述反应器的外周，所述第一电极配置在所述反应器的中心轴上。

8.根据权利要求2至权利要求7中任一项所述的气体制造系统，其中，所述反应器由电介质构成。

9.根据权利要求2至权利要求8中任一项所述的气体制造系统，其中，并列地具备多个所述反应器，所述原料气体供给单元可切换所述原料气体的向所述多个反应器的任一个的供给。

10.根据权利要求9所述的气体制造系统，其中，在将向所述多个反应器中的一个的所述原料气体的供给设为所述基准供给量的时间里，所述气体比率变化单元使向至少另一个所述反应器的所述原料气体的供给为比所述基准供给量少的供给量。

11.根据权利要求1至权利要求10中任一项所述的气体制造系统，其中，所述氧化剂气体为选自水蒸气、二氧化碳气体和氧气中的1种气体或者2种以上的混合气体。

12.根据权利要求1至权利要求11中任一项所述的气体制造系统，其中，所述原料气体为烃系气体，所述生成气体为含氢气体。

13.根据权利要求12所述的气体制造系统，其中，在所述反应器中具备氢传感器，所述气体比率变化单元基于所述氢传感器的测定值，使所述烃系气体的供给量与所述氧化剂气体的供给量的比率变化。

14.根据权利要求13所述的气体制造系统，其中，所述气体比率变化单元基于所述氢传感器的测定值，以预定的时间停止所述烃系气体的向所述反应器的供给。