[发明专利]水包油型清洁化妆料在审
申请号: | 201980096832.9 | 申请日: | 2019-07-31 |
公开(公告)号: | CN114040746A | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | 近藤纯也;神崎康枝;S·T·潘;宮野淳;菊永小百合;堀诚司 | 申请(专利权)人: | 陶氏东丽株式会社 |
主分类号: | A61K8/891 | 分类号: | A61K8/891;A61K8/06;A61K8/44;A61K8/92;A61Q1/14 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张佳鑫;郭辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水包油型 清洁 化妆 | ||
本发明涉及一种水包油型清洁化妆料,其包含:(A)50℃下为液态的羧酸改性硅酮;相对于化妆料的总质量为3~80质量%的(B)油剂;(C)水;以及(D)碱性化合物,除了所述(A)50℃下为液态的羧酸改性硅酮以外的离子性表面活性剂的含量相对于化妆料的总质量为10质量%以下。本发明的清洁化妆料与化妆污垢迅速地溶合,卸妆效果高,稳定性也优异。
技术领域
本发明涉及一种由连续水相和不连续油相构成的水包油型的清洁化妆料。
背景技术
卸掉皮肤上的妆容、污垢的清洁化妆料大致分为所谓的表面活性剂型和溶剂型。表面活性剂型为通过表面活性剂的清洗作用去除妆容、污垢的类型。该类型是将清洁化妆料取到手上加水起泡并涂布于皮肤上,洗掉妆容、污垢的类型,之后皮肤清爽而不残留油膜感。溶剂型为通过溶剂的溶解作用去除妆容、污垢的类型。该类型是将清洁化妆料取到手上直接涂布于皮肤上,使妆容、污垢溶解/分散于清洁料中,然后将其擦拭或水洗而冲洗的类型(森、鹤见“化妆品的有用性”66-81页,药事日报社,2001年)。近年来,彩妆化妆料、防晒化妆料的耐水性显著提高,对于充分地去除这样的牢固的化妆污垢而言,溶剂型的清洁料是适合的,因此开发了各种该类型的清洁化妆料。作为溶剂型的清洁化妆料,通用以油剂为主要成分的油型清洁化妆料。但是,油型清洁化妆料存在使用中及使用后发粘等、使用感差这样的问题。
因此,也提供了同时包含油剂和水的水包油型的清洁化妆料。水包油型清洁化妆料利用涂擦时的水分蒸腾而由O/W型转相为W/O型,由此与油性的化妆污垢溶合,去除污垢,但存在如下问题:转相之前花费时间,因此与化妆污垢的溶合缓慢,此外,在为了容易发生转相而高配合有油分的情况下,稳定性和使用感降低。此外,水包油型清洁化妆料与油型清洁化妆料相比,通常还存在卸妆效果低这样的问题。
此外,在日本特开2009-185144号公报中公开了使用了羧酸改性硅酮的清洗料,具体公开的是大量配合阴离子性表面活性剂、几乎不含油剂的起泡型的表面活性剂型清洗料,与以卸妆为主要目的的溶剂型清洁化妆料不同。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2009-185144号公报
发明内容
发明所要解决的问题
本发明目的在于提供一种与化妆污垢迅速地溶合、卸妆效果高、稳定性也优异的水包油型清洁化妆料。
用于解决问题的方案
本发明的目的通过如下水包油型清洁化妆料来实现,其包含下述的成分:
(A)50℃下为液态的羧酸改性硅酮;
相对于化妆料的总质量为3~80质量%的(B)油剂;
(C)水;以及
(D)碱性化合物,
除了所述(A)50℃下为液态的羧酸改性硅酮以外的离子性表面活性剂的含量相对于化妆料的总质量为10质量%以下。
优选的是,所述(A)羧酸改性硅酮为由下述结构式(1)表示的化合物:
[化学式1]
(式中,
Rc表示通式-R1-(OR2)p-(O)w-R3-COOH所示的含羧基的有机基团,(R1表示碳原子数2~22的直链或支链的亚烷基,R2表示碳原子数2~4的直链或支链的亚烷基,R3表示键合键(-)或碳原子数1~22的直链或支链的亚烷基,p表示0~200的数,w表示0或1的数),
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