[发明专利]超临界流体装置及超临界流体装置的压力控制方法

权利要求书

1.一种超临界流体装置，其特征在于，包括：

溶剂供给部，供给溶剂；

压力控制装置，设置于由所述溶剂供给部供给的溶剂的流路；以及

控制部，对所述压力控制装置进行控制，

所述控制部包括：

第一控制部，通过对所述压力控制装置进行控制，使所述流路的压力上升而使所述溶剂为超临界流体的状态从而维持规定处理的执行环境；以及

第二控制部，在结束所述规定处理的执行环境时，设定所述流路的压力的中间目标值，朝向所述中间目标值对所述流路的压力进行控制。

2.根据权利要求1所述的超临界流体装置，其特征在于，所述第二控制部在朝向所述中间目标值对所述流路的压力进行控制之后，设定比所述中间目标值低的新的中间目标值，朝向所述新的中间目标值对所述流路的压力进行控制。

3.根据权利要求1所述的超临界流体装置，其特征在于，若将所述规定处理的执行环境下的所述流路的压力设为设定压力(P)，将从开始对所述流路的减压起的时间设为经过时间(T1)，及将完成所述流路的减压为止的设定时间设为减压设定时间(T2)，则所述中间目标值通过

减压速度(V)＝设定压力(P)/减压设定时间(T2)

中间目标值＝设定压力(P)-(减压速度(V)×经过时间(T1))

算出。

4.根据权利要求1所述的超临界流体装置，其特征在于，朝向所述中间目标值降低的压力的减少率比不设置所述中间目标值而降低压力时的压力的减少率缓慢。

5.根据权利要求1所述的超临界流体装置，其特征在于，以作为所述规定处理的执行环境下的所述流路的压力减半为止的时间至少经过10秒以上的方式设定所述中间目标值。

6.根据权利要求1所述的超临界流体装置，其特征在于，以作为所述规定处理的执行环境下的所述流路的压力减半为止的时间至少经过1分钟以上的方式设定所述中间目标值。

7.根据权利要求1所述的超临界流体装置，其特征在于，所述超临界流体装置包括超临界流体色谱仪。

8.根据权利要求1所述的超临界流体装置，其特征在于，所述超临界流体装置包括执行超临界流体提取的装置。

9.一种超临界流体装置的压力控制方法，其特征在于，包括以下处理：

通过对设置于由溶剂供给部供给的溶剂的流路的压力控制装置进行控制，使所述流路的压力上升而使所述溶剂为超临界流体的状态从而维持规定处理的执行环境；以及

在结束所述规定处理的执行环境时，设定所述流路的压力的中间目标值，朝向所述中间目标值对所述流路的压力进行控制。