[发明专利]控制无线电基站的总平均发射功率在审
申请号: | 201980096956.7 | 申请日: | 2019-05-29 |
公开(公告)号: | CN113875293A | 公开(公告)日: | 2021-12-31 |
发明(设计)人: | T·维格伦;郭世光 | 申请(专利权)人: | 瑞典爱立信有限公司 |
主分类号: | H04W52/14 | 分类号: | H04W52/14;H04W52/22;H04W52/36 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 杨美灵;李啸 |
地址: | 瑞典斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 控制 无线电 基站 平均 发射 功率 | ||
提供用于控制无线电基站的总平均发射功率的机制。一种方法由控制装置执行。所述方法包括:对于当前离散时间值,根据回退功率控制环执行无线电基站的总平均发射功率的控制。在瞬时发射功率的目前值和瞬时发射功率的目前值之前的瞬时发射功率的()个值的平均时间窗口上计算总平均发射功率。所述方法包括:假设针对从直至的开始于下一个离散时间值的所有离散时间值的瞬时发射功率的值局限于所述瞬时发射功率的最小值,对于小于或等于的未来离散时间值,评估总平均发射功率。所述方法包括:当针对任何未来离散时间值的评估的总平均发射功率超过基于监管限制的功率阈值时,对于至少下一个未来离散时间值,将瞬时发射功率限制为最小值。
技术领域
本文中提供的实施例涉及一种用于控制无线电基站的总平均发射功率的方法、控制装置、计算机程序和计算机程序产品。
背景技术
当任何无线电设备将要被部署时,应该考虑监管射频(RF)电磁场(EMF)暴露要求。这些RF EMF暴露规则可通常基于来自国际非电离辐射防护委员会(ICNIRP)的准则,但可在一些国家和地区采用不同的形式。RF EMF暴露规则的目的是确保人类对RF能量的暴露保持在规定的限制内,这些限制通常已设置有宽的安全裕度。
一些新开发的基站和其他无线电设备装备有所谓的高级天线系统(AAS)。 与传统使用的天线系统相比,这些天线系统通过添加一个或多个天线阵列来增加容量和/或覆盖范围。然后,通过所谓的多输入多输出(MIMO)传送,这能够实现在网络侧的基站和在用户侧的终端装置之间的并行数据流的同时传送。
对于具有带有大量天线元件的AAS以便实现高方向性的基站和其他无线电设备,可能存在大的最大波束成形增益。大波束成形增益的结果通常是辐射功率集中在定向波束中,这意味着:与没有AAS的情况相比,基站的等效全向辐射功率(EIRP)额定值,即从沿所有方向具有单位天线增益的天线辐射的功率,有所增加。
RF EMF暴露限制通常以功率密度(以W/m2为单位)表示,在远场中,功率密度与EIRP成比例。因此,EIRP能够被用于确定远场中的功率密度。
ICNIRP和其他RF EMF暴露限制通常以指定平均时间间隔
因此,可能需要高效控制基站和其他无线电设备的平均功率或EIRP。
发明内容
本文中的实施例的目的是提供基站和其他无线电设备的无线电功率源的高效控制,从而通过基站和无线电设备的受控时间平均功率来保持某些RF EMF禁区。
通常通过由用于控制无线电基站的总平均发射功率的控制装置执行的机制来实现这个目的。
根据第一方面,提供一种用于控制无线电基站的总平均发射功率的方法。所述方法由控制装置执行。所述方法包括:对于当前离散时间值
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