[发明专利]用于衬底的气体处理的反应器

权利要求书

1.一种在用于衬底的气体处理的反应器中使用的气体入口装置(21，21a-21k)，包括：

入口凹穴，该入口凹穴具有背壁(233)以及在下游方向(F)上从该背壁(233)朝向入口凹穴开口(212)延伸的侧壁(234，235)，

撞击表面(243)，

气体孔口(210)，该气体孔口被配置成将气流导向该撞击表面(243)，以及

锥形表面(244，245)，该锥形表面在该撞击表面(243)下游延伸，使得在该侧壁(234，235)与该锥形表面(244，245)之间形成流动间隙(213)，该流动间隙沿着该下游方向(F)具有逐渐增大的截面积。

2.如权利要求1所述的气体入口装置，其中，该撞击表面(243)相对于该气体孔口(22a-22k)所引导的气流为垂直±10度，优选地±5度或±1度。

3.如权利要求1或2所述的气体入口装置，其中，气体孔口(22a-22k)开口与该背壁(233)齐平。

4.如权利要求1或2所述的气体入口装置，其中，气体孔口开口从背壁朝向该撞击表面(243)延伸出。

5.如前述权利要求中任一项所述的气体入口装置，其中，该撞击表面(243)具有凹部。

6.如权利要求5所述的气体入口装置，其中，该气体孔口延伸到该凹部中。

7.如前述权利要求中任一项所述的气体入口装置，其中，由该气体孔口引导的气流被导向该撞击表面的几何重心。

8.如前述权利要求中任一项所述的气体入口装置，其中，该锥形表面以相对于该下游方向(F)小于8度的锥角延伸。

9.如前述权利要求中任一项所述的气体入口装置，其中，该锥形表面的最内端与该撞击表面相交。

10.如权利要求1至8中任一项所述的气体入口装置，其中，纵向表面在该锥形表面与该撞击表面之间延伸，该纵向表面相对于该下游方向(F)成角度地延伸，该角度小于该锥形表面的锥角。

11.如前述权利要求中任一项所述的气体入口装置，其中，该侧壁(234，235)相对于该下游方向(F)成角度地延伸，该角度小于该锥形表面的锥角。

12.如前述权利要求中任一项所述的气体入口装置，其中，该侧壁(234，235)具有上游部分(2341)和下游部分(2342)，并且其中相较于该上游部分，该下游部分相对于该下游方向(F)以更大角度延伸。

13.如前述权利要求中任一项所述的气体入口装置，进一步包括节流布置，该节流布置被配置为使得该气体入口的气流可在最大流量与最小流量之间调整。

14.如前述权利要求中任一项所述的气体入口装置，其中，该凹穴(23)具有一对相对的壁(236，237)，并且其中该锥形表面(244，245)和该侧壁(234，235)在所述相对的壁之间完全延伸。

15.如权利要求14所述的气体入口装置，其中，该流动间隙具有矩形截面，该矩形截面由这些相对的壁(236，237)、该锥形表面(244，245)以及该侧壁(234，235)限定。

16.如权利要求14或15所述的气体入口装置，其中，该气体入口装置是由该凹穴(23)和楔形构件(24)形成，该楔形构件被接纳在该凹穴中，使得该楔形构件的短侧提供该撞击表面(243)。