[发明专利]一种显示装置及其制备方法

权利要求书

1.一种显示装置，其特征在于，包括基板和电致发光器件，所述基板上形成主显示区域以及侧显示区域，所述电致发光器件包括依次铺设于所述基板上的第一电极层、发光层、导电涂层、成核抑制层以及反射电极层；所述主显示区域和所述侧显示区域内的所述反射电极层的厚度不同，以调节所述电致发光器件产生的微腔效应的强弱；所述成核抑制层由成核抑制材料制成，所述成核抑制材料配置为接受紫外光的照射后转化为能够吸附反射电极材料的成核促进材料；所述主显示区域的成核抑制层所接受的光照时间长于所述侧显示区域的成核抑制层所接受的光照时间，和/或所述主显示区域的成核抑制层所接受的光照强度大于所述侧显示区域的成核抑制层所接受的光照强度。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述主显示区域内的反射电极层的厚度大于所述侧显示区域内的反射电极层的厚度。

3.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述导电涂层的导电材料采用金属或金属氧化物，且所述导电材料为透明材料或半透明材料。

4.一种显示装置的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

在基板上依次铺设第一电极层、发光层和导电涂层；

在所述导电涂层上铺设成核抑制层；

对基板上的主显示区域和侧显示区域内的所述成核抑制层分别进行不同光照时间或光照强度的紫外线照射；

当所述成核抑制层中的成核抑制材料转化为能够吸附反射电极材料的成核促进材料后，在所述成核抑制层上铺设反射电极层，使得所述主显示区域和所述侧显示区域内的所述反射电极层的厚度不同。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述主显示区域内的反射电极层的厚度大于所述侧显示区域内的反射电极层的厚度。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述主显示区域的成核抑制层所接受的光照时间长于所述侧显示区域的成核抑制层所接受的光照时间；

和/或所述主显示区域的成核抑制层所接受的光照强度大于所述侧显示区域的成核抑制层所接受的光照强度。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

当对所述成核抑制层进行紫外光照射时，在光源与所述主显示区域内的成核抑制层之间设置第一掩膜板，在光源与所述侧显示区域内的成核抑制层之间设置第二掩膜板；其中，

所述第一掩膜板的透光率高于所述第二掩膜板的透光率或者所述第一掩膜板的厚度小于所述第二掩膜板的厚度。

8.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述导电涂层的导电材料可采用金属或金属氧化物，且所述导电材料为透明材料或半透明材料。