[发明专利]一种显示面板及其制备方法在审
申请号: | 202010001956.9 | 申请日: | 2020-01-02 |
公开(公告)号: | CN111176006A | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 王世龙;金荣 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
1.一种显示面板,包括弯折区和非弯折区;其特征在于,所述显示面板包括位于所述弯折区的调光层;
所述调光层用于对从所述弯折区出射的光进行调节,以降低从所述弯折区出射的光和所述非弯折区出射的光的色彩差异。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板包括第一亚像素、第二亚像素以及第三亚像素;
所述调光层包括第一调光图案、第二调光图案以及第三调光图案中的至少一个;所述第一调光图案与所述第一亚像素正对,用于对从所述第一亚像素出射的光的亮度进行调节;所述第二调光图案与所述第二亚像素正对,用于对从所述第二亚像素出射的光的亮度进行调节;所述第三调光图案与所述第三亚像素正对,用于对从所述第三亚像素出射的光的亮度进行调节。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述调光层包括第一调光图案、第二调光图案以及第三调光图案;
所述第一调光图案、所述第二调光图案以及所述第三调光图案的折射率不完全相同;和/或,所述第一调光图案、所述第二调光图案以及所述第三调光图案的厚度不完全相同。
4.根据权利要求1-3任一项所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板为电致发光显示面板;所述电致发光显示面板包括显示用基板和封装层;所述显示用基板包括发光层;
所述调光层位于所述发光层靠近所述显示面板的出光侧的一侧。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述调光层设置在所述封装层远离所述显示用基板的一侧。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述调光层的材料为无机材料。
7.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
在基底的弯折区形成调光层;所述调光层用于对从所述弯折区出射的光进行调节,以降低从所述弯折区出射的光和非弯折区出射的光的色彩差异;
其中,所述基底包括所述弯折区和所述非弯折区。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述显示面板包括第一亚像素、第二亚像素以及第三亚像素;
所述在基底的弯折区形成调光层,包括:
在所述基底的所述弯折区形成第一调光图案、第二调光图案以及第三调光图案中的至少一个;所述第一调光图案与所述第一亚像素正对,用于对从所述第一亚像素出射的光的亮度进行调节;所述第二调光图案与所述第二亚像素正对,用于对从所述第二亚像素出射的光的亮度进行调节;所述第三调光图案与所述第三亚像素正对,用于对从所述第三亚像素出射的光的亮度进行调节。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述基底的弯折区形成第一调光图案,包括:利用化学气相沉积法在所述基底上沉积一层第一调光薄膜,对所述第一调光薄膜进行构图,以形成所述第一调光图案;
在所述基底的弯折区形成第二调光图案,包括:利用气相沉积法在所述基底上沉积一层第二调光薄膜,对所述第二调光薄膜进行构图,以形成所述第二调光图案;
在所述基底的弯折区形成第三调光图案,包括:利用气相沉积法在所述基底上沉积一层第三调光薄膜,对所述第三调光薄膜进行构图,以形成所述第三调光图案;
所述第一调光图案、所述第二调光图案以及所述第三调光图案的折射率不相同。
10.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述基底的所述弯折区形成第一调光图案、第二调光图案以及第三调光图案中的至少一个,包括:
利用气相沉积法在所述基底上沉积一层第四调光薄膜,对所述第四调光薄膜进行构图,以形成所述第一调光图案和所述第二调光图案;
或者,利用气相沉积法在所述基底上沉积一层第四调光薄膜,对所述第四调光薄膜进行构图,以形成第一调光图案和第二调光图案;
利用气相沉积法在所述基底上沉积一层第五调光薄膜,对所述第五调光薄膜进行构图,以形成第三调光图案;所述第四调光薄膜与所述第五调光薄膜的折射率不相同;
或者,利用气相沉积法在所述基底上沉积一层调光薄膜,对所述调光薄膜进行构图,以形成第一调光图案、第二调光图案和第三调光图案;所述第一调光图案、所述第二调光图案和所述第三调光图案的厚度不完全相同。
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