[发明专利]硅核量子点壳复合纳米材料与制备方法及应用和产品有效

专利信息
申请号: 202010002977.2 申请日: 2020-01-02
公开(公告)号: CN111122854B 公开(公告)日: 2023-09-01
发明(设计)人: 王升启;肖瑞;汪崇文;杨兴胜 申请(专利权)人: 中国人民解放军军事科学院军事医学研究院
主分类号: G01N33/558 分类号: G01N33/558;G01N33/569;G01N33/58;C01B33/18;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 徐乐
地址: 100000 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 量子 复合 纳米 材料 制备 方法 应用 产品
【说明书】:

发明涉及纳米材料及新型量子点领域,具体而言,提供了一种硅核量子点壳复合纳米材料与制备方法及应用和产品。本发明提供的复合纳米材料,具有核壳结构,内核层为SiOsubgt;2/subgt;纳米颗粒,外壳层为羧基化量子点,内核层和外壳层之间还有正电性聚合物层。制备方式如下:首先将正电性聚合物修饰在SiOsubgt;2/subgt;纳米颗粒表面,再吸附一层羧基化量子点,形成硅核量子点外壳的复合纳米材料。该复合纳米材料分散性好、粒径大小可调、荧光强度高且易于批量制备,可用于复杂样本中目标物质的捕获及高灵敏检测。

技术领域

本发明涉及纳米材料及新型量子点领域,具体而言,涉及一种硅核量子点壳复合纳米材料与制备方法及应用和产品。

背景技术

量子点作为纳米领域的代表物质,具有发射光谱窄、激发光谱宽、发射波长可控、强荧光、长荧光寿命、尺寸依赖性等光学及化学性质,近年来在生物学中很多领域都有广泛的应用。20世纪以来,量子点作为新型荧光标签已被广泛用于免疫层析检测系统,这些基于量子点的荧光免疫层析实现了多组分生化分子同时快速检测。量子点标签产生光稳定的、单波长激发的、可读的荧光信号用于同时对多个目标物质的定量检测。相比于代传统的胶体金标签,量子点荧光标签更稳定、灵敏度更高,且具有定性及定量检测的能力。由于用来作为荧光标签的量子点的小尺寸效应,导致在制备过程和修饰抗体过程中难以通过离心回收,限制了其在免疫层析领域的应用。

有鉴于此,特提出本发明。

发明内容

本发明的第一目的在于提供一种复合纳米材料。

本发明的第二目的在于提供一种复合纳米材料的制备方法。

本发明的第三目的在于提供复合纳米材料在标记检测物中的应用。

本发明的第四目的在于提供一种量子点标记检测物。

本发明的第五目的在于提供复合纳米材料或量子点标记检测物在免疫检测或制备免疫检测产品中的应用。

本发明的第六目的在于提供一种免疫检测试剂盒。

为了实现本发明的上述目的,特采用以下技术方案:

一种复合纳米材料,所述复合纳米材料具有核壳结构,内核层为SiO2纳米颗粒,外壳层为羧基化量子点,所述内核层和外壳层之间还有正电性聚合物层。

进一步地,所述复合纳米材料的粒径大小为100-400nm;

优选地,所述SiO2纳米颗粒的粒径大小为80-350nm;

优选地,SiO2纳米颗粒表面的正电性聚合物层的厚度为1-10nm;

优选地,正电性聚合物包括PEI;

优选地,PEI的数均分子质量为5000-80000。

进一步地,所述羧基化量子点的荧光发射波长范围为400-800nm;

优选地,所述羧基化量子点的材料包括CdTe、CdSe、InP、InAs、CdSe/CdS、CdSe/ZnS、CdSe/ZnSe、CdTe/ZnS、CdHgTe/ZnS或HgTe/HgCdS,优选为CdSe/ZnS;

优选地,SiO2纳米颗粒采用化学沉淀法制备得到;

优选地,所述化学沉淀法包括:将含硅的前驱体和还原剂加入到有机溶剂中,搅拌均匀后进行合成反应,待反应完成后离心收集产物,得到SiO2纳米颗粒;

优选地,含硅的前驱体为正硅酸乙酯;

优选地,有机溶剂为乙醇;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军军事科学院军事医学研究院,未经中国人民解放军军事科学院军事医学研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010002977.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top