[发明专利]一种真空镀膜新工艺

权利要求书

1.一种真空镀膜新工艺，包括镀膜设备；其特征在于：所述镀膜设备由真空室(1)、挂架(2)、电级组(3)、真空泵(4)、钨丝(5)和铝圈(6)构成，所述挂架(2)和电级组(3)均安装在真空室(1)内，且所述电级组(3)环绕设置在挂架(2)的外侧，所述真空泵(4)连接在真空室(1)的外侧，所述电级组(3)上的电级柱之间连接有钨丝(5)，且所述钨丝(5)上放置有铝圈(6)；

其镀膜工艺包括以下步骤：

步骤一、首先将产品均匀放置在挂架(2)上，然后将铝圈放置在导电结构钨丝(5)上，将钨丝(5)放置在电级组(3)的电级柱上；

步骤二、关上真空室(1)的室门，启动真空泵(4)进行真空抽取工作，达到设定值真空泵(4)停止工作；

步骤三、通过控制系统开启抽取装置将缸体内的有机硅油抽入到镀膜设备内，对产品进行有机硅油喷涂工艺；

步骤四、控制系统控制导电结构导电，加热铝圈(6)，使得铝圈(6)瞬时熔化，吸附至产品表面，从而完成对产品表面镀铝工艺；

步骤五、再次通过控制系统开启抽取装置将缸体内的有机硅油抽入到镀膜设备内，对产品进行有机硅油表面喷涂；

步骤六、控制系统开启回气阀，向镀膜设备中回气，直至与外界气压一致；

步骤七、打开镀膜设备取出镀膜完成的产品。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜新工艺，其特征在于：所述挂架(2)设置为多层结构。

3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜新工艺，其特征在于：所述镀膜设备在产品基材上先镀机硅油，再镀铝，最后还镀有机硅油。