[发明专利]一种基于射频击穿阈值的电磁结构表面处理方法

权利要求书

1.一种基于射频击穿阈值的电磁结构表面处理方法，其特征在于，所述方法具体包括：

将待清洁电磁结构进行超声波清洗；

采用磷酸清洗剂对所述待清洁电磁结构的表面进行电化学抛光；

将所述待清洁电磁结构进行真空烘烤。

2.根据权利要求1所述的电磁结构表面处理方法，其特征在于，所述将待清洁电磁结构进行超声波清洗，具体包括：

在超声波清洗机中注入清水，并将所述待清洁电磁结构装入所述清水中；

超声波清洗机控制器控制所述超声波清洗机保持所述清水的水温为60℃，并控制所述超声波清洗机将所述待清洁电磁结构在水温为60℃的所述清水中进行超声波清洗达第一预设时间段t₁，t₁大于等于1小时。

3.根据权利要求2所述的电磁结构表面处理方法，其特征在于，所述采用磷酸清洗剂对所述待清洁电磁结构的表面进行电化学抛光，具体包括：

将所述待清洁电磁结构从所述超声波清洗机中取出，并将所述待清洁电磁结构放入电化学抛光水槽；

将电化学抛光设备的电化学抛光接触头浸泡在所述磷酸清洗剂中达第二预设时间段t₂；

将浸泡有所述磷酸清洗剂的所述电化学抛光接触头放置到所述待清洁电磁结构表面进行均匀涂抹，使用所述磷酸清洗剂对所述待清洁电磁结构的表面进行电化学抛光。

4.根据权利要求3所述的电磁结构表面处理方法，其特征在于，所述磷酸清洗剂由99.99％磷酸(重量)与水1：1(重量)调配而成。

5.根据权利要求4所述的电磁结构表面处理方法，其特征在于，所述将浸泡有所述磷酸清洗剂的所述电化学抛光接触头放置到所述待清洁电磁结构表面进行均匀涂抹，使用所述磷酸清洗剂对所述待清洁电磁结构的表面进行电化学抛光，之前还包括：

所述电化学抛光设备还包括一根夹子线和一根带导线的L型铜棒，将所述夹子线的夹子一端夹在所述电化学抛光水槽上，将所述夹子线的另一端接在电化学抛光开关电源的输出正极上；

将所述铜棒的长柄端通过导线与所述电化学抛光开关电源的输出负极连接，以及将所述铜棒的短柄端用玻璃纤维布包裹为所述电化学抛光接触头。

6.根据权利要求5所述的电磁结构表面处理方法，其特征在于，所述将浸泡有所述磷酸清洗剂的所述电化学抛光接触头放置到所述待清洁电磁结构表面进行均匀涂抹，使用所述磷酸清洗剂对所述待清洁电磁结构的表面进行电化学抛光，之后还包括：

将经过电化学抛光之后的所述待清洁电磁结构放置到清水冲洗机中；

通过所述清水冲洗机对所述经过电化学抛光之后的待清洁电磁结构进行清洗。

7.根据权利要求6所述的电磁结构表面处理方法，其特征在于，所述将所述待清洁电磁结构进行真空烘烤，具体包括：

将所述待清洁电磁结构从所述清水冲洗机中取出，并用洗水布将所述待清洁电磁结构擦干后，将所述待清洁电磁结构放入真空烘烤箱中；

开启所述真空烘烤箱和连接于所述真空烘烤箱的机械泵的电源，并将所述真空烘烤箱的温度设定为120℃，以便对所述待清洁电磁结构进行真空烘烤。