[发明专利]一种钼/钛合金薄膜蚀刻液组合物及其应用

权利要求书

1.一种钼/钛合金薄膜蚀刻液组合物，其特征在于，所述蚀刻液组合物包括0.25-0.45wt%的过硫酸盐、3-4wt%的过氧化氢、0.05-0.08wt%的含氟化物、5-10wt%的磷酸二氢铵、1.0-2.5wt%的酒石酸、0.3-0.5wt%的防止侧面腐蚀添加剂2-氯-5氯甲基噻唑、2-5wt%的乙二胺四甲叉膦酸络合剂以及去离子水；pH为5.0-6.0；

所述蚀刻液组合物还包括过氧化氢稳定剂；

所述蚀刻液组合物还包括硫酸氢铵、硫酸钠中的一种或多种，含量最佳为0.01-0.05wt%。

2.如权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述过硫酸盐为过硫酸钠、过硫酸钾、过硫酸铵中的一种或多种。

3.如权利要求1-2任一项所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述氟化物为氟化钠、氟化钾、氟化铵、氟硼酸钠中的一种或多种。

4.如权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述过氧化氢稳定剂为苯基脲、烯丙基脲中的一种或多种。

5.如权利要求1-4任一项所述的蚀刻液组合物，其特征在于，钼/钛合金薄膜通过物理气相沉积、化学气相沉积、化学镀以及电镀法形成。

6.一种钼/钛合金薄膜蚀刻液组合物在薄膜晶体管(TFT)阵列基板的应用，其特征在于使用权利要求1-5任一项所述钼/钛合金薄膜蚀刻液组合物。