[发明专利]一种氧化镥铽磁光透明陶瓷的真空热压制备方法

权利要求书

1.一种氧化镥铽磁光透明陶瓷，其特征在于，其分子式为(Lu_1-x Tb_x)₂O₃，其中x为铽离子的掺杂浓度，x＝30～75mol％。

2.权利要求1所述的氧化镥铽磁光透明陶瓷的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)根据分子式为(Lu_1-xTb_x)₂O₃，x＝30～75mol％，配置含Lu和Tb离子的阳离子溶液；

(2)将沉淀剂碳酸氢铵逐滴加入到上述阳离子溶液中进行反应，反应的同时不停搅拌直至反应完全，得到沉淀溶液；

(3)将步骤(2)所得的沉淀溶液经过陈化、离心、洗涤、真空烘箱中干燥后，先用马弗炉以1000℃煅烧2h煅烧，完成后再置于氢气炉中以1000℃煅烧2h，最终得到氧化镥铽纳米粉体；

(4)将步骤(3)合成的氧化镥铽纳米粉体中引入至少一种烧结助剂，烧结助剂的加入质量为氧化镥铽纳米粉体质量的0.5％；；

(5)以无水乙醇为球磨介质，采用高能球磨的方式进行混料，混料后干燥过筛；

(6)将步骤(5)得到的干燥过筛的粉体，放入石墨模具中，经过真空热压烧结后，自然冷却之室温后，取出陶瓷，采用不同粗糙度的砂纸对样品表面进行粗磨，抛光膏对氧化镥铽磁光透明陶瓷进行抛光处理，得到氧化镥铽磁光透明陶瓷。

3.如权利要求2所述的氧化镥铽磁光透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)具体包括：将Lu₂O₃和Tb₄O₇溶解于浓硝酸中，溶解的同时不停搅拌，完全溶解后的硝酸盐中加入去离子水配成的阳离子溶液。

4.如权利要求2所述的氧化镥铽磁光透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中的阳离子溶液中镥和铽离子的溶液浓度均为0.5mol/L。

5.如权利要求2所述的氧化镥铽磁光透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中沉淀剂碳酸氢铵的溶液溶度为2mol/L，反应时间为30min。

6.如权利要求2所述的氧化镥铽磁光透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中沉淀溶液陈化时间为6h，离心时间为30min，离心机转速为≧16000mrp，真空干燥时间为48h。

7.如权利要求2所述的氧化镥铽磁光透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤(4)中的烧结助剂为Li₂O、SiO₂、PbO中的一种或它们的组合。

8.如权利要求2所述的氧化镥铽磁光透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤(5)中高能球磨的转速为≧300mrp，连续球磨时间不小于24h。

9.如权利要求2所述的氧化镥铽磁光透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤(6)中真空烧结烧结温度为1500℃，保温时间为10h，烧结压力为70Mpa。

10.如权利要求2所述的氧化镥铽磁光透明陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤(6)中所述粗磨具体包括：先后用粗糙度为80,360,1000,2000,3000,5000号的砂纸对样品表面进行打磨。