[发明专利]光源装置有效

专利信息
申请号: 202010004957.9 申请日: 2020-01-03
公开(公告)号: CN111917003B 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 李文;洪祥致;吕大鹏;杨淑桦;苏渝宏 申请(专利权)人: 光宝光电(常州)有限公司;光宝科技股份有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183
代理公司: 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 代理人: 刘兴;张羽
地址: 213123 江苏省常州*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光源 装置
【权利要求书】:

1.一种光源装置,其特征在于,所述光源装置包括:

一基板,包含有位于相反侧的一第一板面与一第二板面;

一上电极层与一下电极层,分别设置于所述基板的所述第一板面与所述第二板面,并且所述下电极层包含有一第一下电极层与一第二下电极层;

一发光单元,安装于所述上电极层,并且所述发光单元通过所述上电极层电性耦接于所述第一下电极层;

一围墙,设置于所述第一板面、并围绕于所述发光单元的外侧;

一导电单元,设置于所述围墙并电性耦接于所述第二下电极层,所述导电单元包含有位置远离所述基板的多个上接垫;

一透光件,设置于所述围墙上,并且所述透光件的外侧缘与所述围墙的内表面形成有一缝隙;

至少一个侦测回路,形成于所述透光件、并包含有分别邻近于多个所述上接垫的多个接点;以及

多个导电黏结部,各包含有一胶体及埋置于所述胶体内的多个支撑体,每个所述导电黏结部的所述胶体和多个所述支撑体部分填入所述缝隙,使多个所述接点通过多个所述导电黏结部电性耦接至多个所述上接垫。

2.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述缝隙的一宽度定义为b,任一个所述导电黏结部的多个所述支撑体的一等效外径定义为a;其中,a(D90)b且a(D10)b/2;其中,a(D90)指累计粒度分布数达到90%时对应所述支撑体的所述等效外径,a(D90)b表示90%数量的所述支撑体的所述等效外径要小于所述缝隙的所述宽度,a(D10)b/2指10%数量的所述支撑体的所述等效外径要大于所述缝隙的所述宽度的一半。

3.如权利要求2所述的光源装置,其特征在于,所述支撑体的等效外径分布宽度满足0.3(D90-D10)/D501.6。

4.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,任一个所述导电黏结部的多个所述支撑体是由金属、玻璃及高分子的至少其中之一或其组合所制成。

5.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,任一个所述导电黏结部的多个所述支撑体呈球状、片状、长条状及不规则状的至少其中之一或其组合。

6.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述胶体为粒径小于2μm的银胶,所述支撑体为锡银铜合金颗粒。

7.如权利要求6所述的光源装置,其特征在于,所述支撑体在所述导电黏结部中的质量分数为10%~30%。

8.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述围墙呈环形阶梯状且包含有:

一上阶面,远离所述基板;

一上梯面,相连于所述上阶面的内缘;

一下阶面,位于所述上梯面的内侧,并且所述下阶面与所述第一板面的一距离小于所述上阶面与所述第一板面的一距离;及

一下梯面,相连于所述下阶面内缘且远离所述上阶面;其中,所述下梯面与所述第一板面包围形成有一容置槽;

其中,所述发光单元位于所述容置槽内,多个所述上接垫设置于所述上阶面,所述透光件设置于所述下阶面,并且所述缝隙位于所述透光件的所述外侧缘与所述上梯面之间。

9.如权利要求8所述的光源装置,其特征在于,所述围墙自所述下阶面与所述下梯面共同凹设形成有连通于所述容置槽的至少一个凹口,并且至少一个所述凹口构成能够连通所述容置槽与一外部空间的一气流通道。

10.如权利要求8所述的光源装置,其特征在于,任一个所述导电黏结部未接触所述下阶面。

11.如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,每个所述导电黏结部通过多个所述支撑体部分填入所述缝隙,以使所述胶体的顶缘未落在所述缝隙之内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于光宝光电(常州)有限公司;光宝科技股份有限公司,未经光宝光电(常州)有限公司;光宝科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010004957.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top