[发明专利]一种利用光控制技术制备多层共敏化薄膜的方法

权利要求书

1.一种利用光控制技术制备多层共敏化薄膜的方法，其特征在于：所述方法包括以下步骤，

(1)、在导电玻璃基底上制备纳米多孔半导体TiO₂薄膜；

(2)、在纳米多孔半导体TiO₂薄膜上均匀涂抹PEG-AuNPs；

(3)、将薄膜放置于近红外光下照射，使PEG-AuNPs部分熔化，得到一个没有被染料吸附的空白层；

(4)、将薄膜浸入染料A溶液，使薄膜吸附染料A；

(5)、将薄膜放置于近红外光下照射，使附着在薄膜上的PEG-AuNPs全部熔化，这样又可得到另一个染料解吸附层；

(6)、将含有染料空白层的半导体薄膜浸入第二种染料B，使染料空白层吸附染料B，得到含有2个染料吸附层的共敏化薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种利用光控制技术制备多层共敏化薄膜的方法，其特征在于：所述PEG-AuNPs中PEG与金纳米粒子AuNPs的体积比≥10:1，并且选用分子量为2000的PEG。

3.根据权利要求1所述的一种利用光控制技术制备多层共敏化薄膜的方法，其特征在于：所述步骤(4)中的染料A和步骤(6)中的染料B在吸光度图谱中互补，吸收大部分太阳光。

4.根据权利要求1所述的一种利用光控制技术制备多层共敏化薄膜的方法，其特征在于：通过控制近红外光照强度和光照时间，影响染料空白层的厚度；在相同条件下，采用光照强度越高的光源照射得到的空白层厚度越厚；光照时间越长得到的空白层厚度越厚。