[发明专利]一种倒置结构大视场Mirco-CT扫描成像系统

权利要求书

1.一种倒置结构大视场Mirco-CT扫描成像系统，其特征在于：包括电子束扫描面阵微焦射线源、超高分辨率探测器和精密转台；

所述电子束扫描面阵微焦射线源与超高分辨率探测器保持一定距离；

所述电子束扫描面阵微焦射线源通过多次投影覆盖住整个检测物体；

所述检测物体位于倒置结构大视场Mirco-CT扫描成像系统的视场范围内；

电子束扫描面阵微焦射线源按时间序列逐个焦点发出X射线束，X射线束穿过检测物体后，由超高分辨率探测器同步完成图像采集；

检测物体旋转一分度角度后，电子束扫描面阵微焦射线源和超高分辨率探测器再完成另一分度下的图像采集，检测物体依次旋转，直到完成360度的扫描。

2.根据权利要求1所述的一种倒置结构大视场Mirco-CT扫描成像系统，其特征在于：所述电子束扫描面阵微焦射线源的焦点在1×1～1024×1024阵列范围内根据检测样品的需要设置，有效焦点尺寸优于2μm，电子束在透射靶面扫描的总范围为5～20mm。

3.根据权利要求1所述的一种倒置结构大视场Mirco-CT扫描成像系统，其特征在于：所述超高分辨率探测器为CCD或COMS超高分辨率探测器，像元尺寸为4～12μm。

4.根据权利要求3所述的一种倒置结构大视场Mirco-CT扫描成像系统，其特征在于：所述超高分辨率探测器分辨率优于20lp/mm，有效探测面积为10～35×10～35mm²。

5.根据权利要求1所述的一种倒置结构大视场Mirco-CT扫描成像系统，其特征在于：所述精密转台的双向重复分度精度：0.0011°；绝对精度：0.01°；径向跳动：≤3μm；轴向跳动：≤10μm。