[发明专利]一种阵列式液滴晶体制备方法及装置

权利要求书

1.一种阵列式液滴晶体制备装置，其特征在于包括操作箱、阵列液滴制备模块、晶体生长基底模块和溶剂吸收装置；

所述的操作箱为可封闭腔体，其内部设有温湿度调控模块，所述溶剂吸收装置设置在操作箱上并与操作箱内部连通；所述的操作箱内设有多层晶体生长区域，晶体生长区域之间以隔板相隔，晶体生长区域之间的气体相通；

所述的晶体生长基底模块上表面经过疏水处理；晶体生长基底模块可水平放置在晶体生长区域内，并可从晶体生长区域取出；

所述的阵列液滴制备模块包括若干结构相同呈阵列布置的滴液管，阵列液滴制备模块用于向晶体生长基底板滴液；滴液时，阵列液滴制备模块位于晶体生长基底模块正上方。

2.根据权利要求1所述的阵列式液滴晶体制备装置，其特征在于所述的操作箱侧边设有基底进出门，基底进出门与操作箱箱体之间设有密封条。

3.根据权利要求1所述的阵列式液滴晶体制备装置，其特征在于所述的溶剂吸收模块包括筒体和与筒体相连的吸气泵，所述的筒体内填充有固体吸收剂，筒体与操作箱内的空腔相通。

4.根据权利要求1所述的阵列式液滴晶体制备装置，其特征在于所述的温湿度调控模块包括控制器、加热器、冷风机、加湿器和温湿度传感器，所述的温湿度传感器与控制器相连用于传输温湿度检测数据，所述的控制器与加热器、冷风机、加湿器电连接。

5.根据权利要求1所述的阵列式液滴晶体制备装置，其特征在于所述的滴液管内设有活塞，滴液管底部设有滴液头；所述的阵列液滴制备模块还包括至少一个步进电机，所述滴液管的活塞通过连接件与步进电机相连；所述阵列液滴制备模块内的活塞同步运动。

6.根据权利要求1所述的阵列式液滴晶体制备装置，其特征在于所述的晶体生长基底模块上表面为光滑平面。

7.一种阵列式液滴晶体制备方法，其特征在于包括如下步骤：

1)配制晶体生长溶液；

2)阵列式液滴制备模块吸取晶体生长溶液，将阵列式液滴制备模块移动到晶体生长基底模块的正上方；调节阵列式液滴制备模块与晶体生长基底模块间的距离至设定值；

3)阵列式液滴制备模块将液滴定量、精确地滴加到晶体生长基底模块上；

4)设定操作箱内的温度和湿度设定值，将晶体生长基底模块水平运送至操作箱内的晶体生长区域，然后封闭操作箱；温湿度调控模块工作使操作箱内的温湿度维持在设定值；启动溶剂吸收装置对操作箱内挥发的溶剂进行吸收；

5)开始晶体生长过程，待生长结束后，取出晶体生长基底模块，将晶体与晶体生长基底模块进行分离。