[发明专利]掩膜板组件及制作掩膜板组件的方法有效

专利信息
申请号: 202010006103.4 申请日: 2020-01-03
公开(公告)号: CN111041416B 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 嵇凤丽;朴进山;朱艺丹 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 刘继昂
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 掩膜板 组件 制作 方法
【权利要求书】:

1.一种掩膜板组件,其特征在于,包括:

金属框架,所述金属框架具有第一作业窗口;

金属板,所述金属板与所述金属框架层叠设置,所述金属板包括本体,所述本体与所述第一作业窗口相对且所述本体的外轮廓位于所述第一作业窗口的外轮廓内,所述本体上设有第二作业窗口,所述第二作业窗口的外轮廓位于所述第一作业窗口的外轮廓内,所述本体的外周缘设有多个连接柱,多个所述连接柱沿所述本体的周向方向间隔开,所述连接柱的至少部分与所述金属框架相对,所述金属框架上设有多个与所述连接柱配合的凹槽,多个所述凹槽与多个所述连接柱一一对应,所述连接柱位于所述凹槽内且与所述金属框架焊接连接,所述凹槽的深度为H,所述连接柱的厚度为h,且满足:H≥h;

精细金属掩膜板,所述精细金属掩膜板与所述金属板层叠设置且位于所述金属板的远离所述金属框架的一侧,所述精细金属掩膜板仅与所述金属框架的位于相邻的两个所述连接柱之间的区域焊接连接以封挡所述第二作业窗口。

2.根据权利要求1所述的掩膜板组件,其特征在于,所述本体的外轮廓与所述第一作业窗口的外轮廓相同,所述本体的外周壁与所述第一作业窗口的内周壁贴合。

3.根据权利要求1所述的掩膜板组件,其特征在于,所述第二作业窗口为间隔开的多个。

4.根据权利要求3所述的掩膜板组件,其特征在于,所述精细金属掩膜板为多个,每个所述精细金属掩膜板封挡至少一个所述第二作业窗口。

5.根据权利要求4所述的掩膜板组件,其特征在于,多个所述第二作业窗口成多行多列排布,多个所述精细金属掩膜板与多列所述第二作业窗口一一对应,每个所述精细金属掩膜板封挡每列所述第二作业窗口中的多个所述第二作业窗口,所述精细金属掩膜板长度方向的两端与所述金属框架的位于相邻的两个所述连接柱之间的区域焊接连接。

6.根据权利要求5所述的掩膜板组件,其特征在于,沿所述第二作业窗口的行延伸方向,相邻两列所述第二作业窗口之间均设有两个沿所述第二作业窗口的列延伸方向延伸的所述连接柱,两个所述连接柱分别位于所述第二作业窗口列延伸方向的两端,位于所述第二作业窗口的行延伸方向两端的位置均设有两个沿所述第二作业窗口的列延伸方向延伸的所述连接柱,两个所述连接柱分别位于所述第二作业窗口列延伸方向的两端。

7.根据权利要求6所述的掩膜板组件,其特征在于,沿所述第二作业窗口的列延伸方向,相邻两行所述第二作业窗口之间均设有两个沿所述第二作业窗口的行延伸方向延伸的所述连接柱,两个所述连接柱分别位于所述第二作业窗口行延伸方向的两端,位于所述第二作业窗口的列延伸方向两端的位置均设有两个沿所述第二作业窗口的行延伸方向延伸的所述连接柱,两个所述连接柱分别位于所述第二作业窗口行延伸方向的两端。

8.根据权利要求1所述的掩膜板组件,其特征在于,所述H和h满足:H-h≥10μm。

9.一种制作掩膜板组件的方法,其特征在于,所述掩膜板组件为根据权利要求1-8中任一项所述的掩膜板组件,所述制作方法包括:

制作设有第一作业窗口的金属框架主体,在所述金属框架主体上设置多个凹槽,多个所述凹槽沿所述第一作业窗口的周向方向间隔设置;

制作本体,并在所述本体上设置所述第二作业窗口,使得所述第二作业窗口的外轮廓位于所述第一作业窗口的外轮廓内,在所述本体的外周缘设置多个连接柱,多个所述连接柱与多个所述凹槽一一对应;

将精细金属掩膜板与所述金属板层叠设置且使得所述精细金属掩膜板位于所述金属板的远离所述金属框架的一侧,将所述精细金属掩膜板焊接在所述金属框架的位于相邻两个所述连接柱之间的区域上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010006103.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code