[发明专利]一种显示面板和显示装置有效

专利信息
申请号: 202010006630.5 申请日: 2020-01-03
公开(公告)号: CN111162097B 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 翟应腾 申请(专利权)人: 武汉天马微电子有限公司;武汉天马微电子有限公司上海分公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L23/00;H01L27/32
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 430205 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括,

显示区和围绕所述显示区的非显示区;

衬底基板;

像素阵列,位于所述衬底基板一侧,所述像素阵列包括至少一无机绝缘层,所述无机绝缘层的边缘位于所述非显示区;

第一修复层,所述第一修复层位于所述非显示区,所述第一修复层位于所述无机绝缘层远离所述衬底基板一侧,所述第一修复层覆盖所述无机绝缘层的边缘,所述第一修复层与所述衬底基板接触,所述第一修复层具有修复功能;

光源,所述光源位于所述非显示区,用于向所述第一修复层提供光照引发所述修复功能。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,

所述第一修复层包括基体材料和引发剂。

3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,

所述引发剂包括光致酸产生剂,所述基体材料包括丙烯酸单体。

4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,

所述光源为主动选择性发光,所述光源的发光频率为固定频率。

5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,

所述光源为被动选择性发光,所述显示面板在经过外界刺激后,所述光源发光。

6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,

所述无机绝缘层至少具有一个凹槽,所述凹槽位于所述非显示区;

所述第一修复层填充所述凹槽。

7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,

所述显示面板还包括遮光层,所述遮光层位于所述像素阵列远离所述衬底基板一侧,所述遮光层位于所述非显示区。

8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,

所述显示面板还包括有机发光层,所述有机发光层位于所述像素阵列远离所述衬底基板一侧,所述有机发光层包括多个发光器件;

所述光源为有机发光二极管,所述有机发光二极管与所述发光器件同层制备。

9.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,

所述光源为Micro-LED,所述光源位于所述衬底基板靠近所述像素阵列一侧;

或,所述光源为Micro-LED,所述显示面板还包括第二基板,所述第二基板位于所述像素阵列远离所述衬底基板一侧,所述光源位于所述第二基板靠近所述衬底基板一侧。

10.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述光源为Micro-LED,所述显示面板还包括第二基板,所述第二基板位于所述像素阵列远离所述衬底基板一侧,所述光源位于所述第二基板靠近所述衬底基板一侧;

在垂直于所述衬底基板所在平面的方向上,所述光源与所述第一修复层至少部分交叠。

11.根据权利要求1所述显示面板,其特征在于,

所述光源为紫外光源。

12.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,

所述显示面板还包括有机发光层,所述有机发光层位于所述像素阵列远离所述衬底基板一侧;所述显示面板还包括封装结构,所述封装结构位于所述有机发光层远离所述衬底基板一侧,所述封装结构包括至少一个有机封装层和至少一个无机封装层;

所述显示面板还包括第二修复层,所述第二修复层具有所述修复功能;

所述第二修复层复用为所述有机封装层。

13.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,

所述显示面板还包括薄膜触控层,所述薄膜触控层位于所述像素阵列远离所述衬底基板一侧,所述薄膜触控层包括触控金属层和触控绝缘层;

所述显示面板还包括第三修复层,所述第三修复层具有所述修复功能;

所述第三修复层复用为所述触控绝缘层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉天马微电子有限公司;武汉天马微电子有限公司上海分公司,未经武汉天马微电子有限公司;武汉天马微电子有限公司上海分公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010006630.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top